技术编号:35774565
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。基板处理方法.相关申请的交叉引用.本申请要求年月日提交于韩国知识产权局的韩国专利申请no.--的优先权,其主题整体以引用方式并入本文中。技术领域.本发明构思总体上涉及一种基板处理方法。背景技术.当代且新兴的半导体装置的特点在于集成密度增加。因此,构成的元件和组件的物理尺寸已减小。考虑到越来越小的元件和组件尺寸,不断增加的小的缺陷往往会使半导体装置的性能越来越劣化。发明内容.在一个方面,本发明构思的实施例提供了一种改进硅膜的稳定性的基板处理方法。...
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