技术编号：35783475
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本申请涉及吸笔技术领域，具体而言，涉及一种折弯吸笔。背景技术.硅在自然界中主要以二氧化硅和硅酸盐等形式存在，需要经过较为复杂的冶炼过程和超高的提纯加工工艺才能达到和满足半导体产业生产制造的要求，用于半导体的单晶硅纯度要求为.％，甚至达到.％以上。单晶硅生长方法按照晶体的生长方式不同，可分为直拉法、区熔法和外延法等，其中，直拉法是现在比较主流的单晶硅生长方法。单晶硅通过切片、圆边、研磨等工序后得到硅片。.目前在硅片加工行业常用的几款吸笔中，吸笔的主体平直，制法...
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