技术编号：35792927
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及湿法制程领域，具体而言，涉及一种湿法制程装置及产线模拟系统。背景技术.在泛半导体前期工艺研发阶段，通常要对实际生产制造过程进行模拟，包括湿刻、剥离、显影等工艺，各个工艺会集成在一个装置内进行作业，每个工艺需要朝产品喷洒对应的湿电子化学品，但是各工艺切换过程中难免存在残留的湿电子化学品，而不同的湿电子化学品接触时会对产品质量造成影响，导致整体产品合格率降低。实用新型内容.本实用新型提供了一种湿法制程装置及产线模拟系统，其能够对产品在各个工艺切换过程中进行清洁作业，避免残留的湿...
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