支化硅氧烷及其合成方法技术资料下载

技术编号:3586484

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本发明涉及支化硅氧烷 及支化硅氧烷的合成方法,所述支化硅氧烷包括但不限于官能化支化硅氧烷。这类化合物具有许多用途,包括在半导体工业中包括平坦化层、可图案化绝缘体等的多个应用。背景技术具有低粘度、低蒸气压和高硅含量的液体支化硅氧烷用于半导体工业例如微处理器、闪存、视觉显示装置和光学器件(发光二极管)等的制造。例如,Michael Lin等报导了用于纳米压印光刻法的命名为Si-14的可UV固化液体支化硅氧烷[1,2]。他们得出的结论是,用甲基丙烯酸酯作为可UV...
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