技术编号:35932896
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及真空镀膜技术领域,具体为一种用于真空镀膜的栅格式离子源装置。背景技术.真空镀膜是一种将材料以薄膜形式覆盖在物体表面的技术。它通常在真空环境下进行,以避免与空气中的其他物质发生化学反应。.专利公告号为cnu的专利涉及一种用于真空镀膜的栅格式离子源装置,涉及真空镀膜设备技术领域,包括栅格式离子源装置主体,所述栅格式离子源装置主体的正面固定安装有控制面板,所述栅格式离子源装置主体的上端固定安装有支撑架,且支撑架的上端固定安装有第一支撑横板,所述栅格式离子源装置主体的...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。