一种用于真空镀膜的栅格式离子源装置的制作方法

本发明涉及真空镀膜，具体为一种用于真空镀膜的栅格式离子源装置。

背景技术：

1、真空镀膜是一种将材料以薄膜形式覆盖在物体表面的技术。它通常在真空环境下进行，以避免与空气中的其他物质发生化学反应。

2、专利公告号为cn219032332u的专利涉及一种用于真空镀膜的栅格式离子源装置，涉及真空镀膜设备技术领域，包括栅格式离子源装置主体，所述栅格式离子源装置主体的正面固定安装有控制面板，所述栅格式离子源装置主体的上端固定安装有支撑架，且支撑架的上端固定安装有第一支撑横板，所述栅格式离子源装置主体的右端固定安装有出料阀口，所述栅格式离子源装置主体的下端固定安装有支撑腿。该专利通过第二支撑横板和密封橡胶元件的设置，可以在上下移动的过程中对内壁进行清理，从而方便下次的使用，另外在镀膜的过程中对镀膜的物料起到支撑的作用，根据伸缩杆、弹簧元件和支撑底座的设置，可以在使用的过程中对第二支撑横板起到支撑的作用，方便对内部的物件进行镀膜。

3、上述专利中，镀膜的过程中对镀膜的物料起到支撑的作用，根据伸缩杆、弹簧元件和支撑底座的设置，可以在使用的过程中对第二支撑横板起到支撑的作用，方便对内部的物件进行镀膜，由于在进行镀膜需要进行真空，在进行真空镀膜时可以随意的将门板打开会对真空镀膜的效果产生影响，难以在装置内部处于真空使限制门板打开，同时真空环境下可以打开门板还会提高真空镀膜的危险性。

4、因此，设计真空状态下盖门无法打开提高了真空镀膜安全性的一种用于真空镀膜的栅格式离子源装置是很有必要的。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种用于真空镀膜的栅格式离子源装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为了解决上述技术问题，本发明提供如下技术方案：一种用于真空镀膜的栅格式离子源装置，包括装置本体，还包括密封装置和感应装置，其中，所述装置本体的表面转动安装有盖门，所述密封装置包括固定板、固定框、卡位块、密封板、固定杆、梯形块、固定块和限制杆，梯形块向下移动时梯形块的斜面会与限制杆接触，使梯形块向下移动时梯形块会推动限制杆向左侧移动，限制杆向左侧移动时会限制卡位块向上移动，所述固定板和固定框均固定安装在装置本体的顶部，所述卡位块滑动贯穿固定板，所述密封板滑动安装在固定框的内部，所述固定杆固定安装在密封板的顶部，所述梯形块固定安装在固定杆的表面，所述固定块固定安装在固定框的内部，所述限制杆滑动贯穿固定板，真空状态下盖门无法打开提高了真空镀膜的安全性。

3、根据上述技术方案，所述卡位块靠近盖门的一侧设置为斜面，所述卡位块与固定板之间设置有一号弹簧，所述密封板与固定框之间设置有二号弹簧，所述限制杆与固定板之间设置有三号弹簧，通过一号弹簧会带动卡位块复位，通过二号弹簧会带动密封板复位。

4、根据上述技术方案，所述感应装置包括支撑架、摆动杆、接触杆、弹性伸缩杆、橡胶轮、凸块、安装架、控制开关和传动块，所述支撑架滑动安装在固定框的顶部，所述摆动杆转动安装在固定框的表面，所述接触杆滑动安装在装置本体的顶部，所述弹性伸缩杆一端与支撑架铰接，所述弹性伸缩杆的另一端与摆动杆铰接，所述橡胶轮转动安装在支撑架的表面，所述凸块固定安装在橡胶轮的表面，所述安装架固定安装在支撑架的表面，所述控制开关固定安装在安装架的表面，所述传动块固定安装在控制开关的控制端，凸块转动时会与传动块接触并且推动传动块和控制开关的控制端，避免装置本体内部产生泄漏时真空镀膜仍然处于工作状态会对真空镀膜的效果产生影响。

5、根据上述技术方案，所述控制开关与装置本体电性连接，所述支撑架与装置本体之间设置有四号弹簧，所述摆动杆与固定框之间设置有一号扭簧，通过四号弹簧可以带动支撑架复位，通过一号扭簧可以带动摆动杆复位。

6、根据上述技术方案，还包括换气装置和去除装置，所述装置本体的顶部设置有换气装置，换气装置包括净化框、净化板、进气管、连接架、塞板、推动板和倾斜板，所述净化框固定安装在装置本体的顶部，所述净化板固定安装在净化框的内部，所述进气管固定安装在净化框的顶部，所述连接架滑动安装在进气管的顶部，所述塞板固定安装在连接架的表面，所述推动板滑动安装在净化框的表面，所述倾斜板固定安装在支撑架的表面，推动板向上移动时推动板的斜面会推动连接架向右侧移动，避免装置本体需要工作时没有及时将进气管密封会对装置本体内部的密封效果产生影响。

7、根据上述技术方案，所述连接架与进气管之间设置有五号弹簧，所述进气管的顶部固定安装有电动推杆，所述电动推杆的输出端固定安装有弹性板，所述弹性板的表面固定安装有弧形块，所述连接架的表面固定安装有撞击块，通过五号弹簧可以带动连接架复位，通过电动推杆会带动弹性板向左侧移动，弹性板向左侧移动时会带动弧形块向左侧移动，弧形块向左侧移动时会撞击撞击块，使撞击块受到撞击时会带动连接架和塞块产生振动，避免塞块卡在进气管的内部无法脱离。

8、根据上述技术方案，所述去除装置包括密封橡胶、密封框、活塞板、联动杆和插杆，密封框内部的气体会通过凹形槽排出，使密封框和密封橡胶内部气体会排出，密封橡胶内部气体排出会产生收缩，所述盖门的表面设置有凹槽，所述密封橡胶固定安装在凹槽的内部，所述密封框固定安装在装置本体的顶部，所述活塞板滑动安装在密封框的内部，所述联动杆固定安装在活塞板的表面，所述插杆固定安装在活塞板的表面，所述插杆的表面开设有凹形槽，所述活塞板的右侧通过管道与密封橡胶的内部连通，通过密封橡胶的间歇性的收缩和膨胀会提高异物从密封橡胶表面脱离的效果，防止异物粘附在密封橡胶的表面会影响盖门与装置本体之间的密封效果。

9、根据上述技术方案，所述活塞板与密封框之间设置有六号弹簧，所述插杆滑动贯穿密封框，所述卡位块的表面固定安装有弯曲杆，所述弯曲杆的表面固定安装有弹性块，弯曲杆移动时会带动弹性块进行移动，弹性块移动时会撞击联动杆产生振动，联动杆产生振动时会传递到盖门上，可以进一步提高异物从盖门上脱离的效果。

10、与现有技术相比，本发明所达到的有益效果是：

11、、该用于真空镀膜的栅格式离子源装置，通过装置本体内部真空会导致密封板和固定杆向下移动，通过固定杆带动梯形块向下移动会推动限制杆向左侧移动，限制杆向左侧移动会限制卡位块向上移动，卡位块无法向上移动使盖门无法被打开，避免装置本体处于真空状态时将盖门随意的打开会对装置本体内部的密封效果产生影响，同时还会降低真空镀膜的效果，通过真空状态下盖门无法打开提高了真空镀膜的安全性。

12、、该用于真空镀膜的栅格式离子源装置，在装置本体内部的产生泄漏时，导致装置本体内部的负压效果会逐渐降低，密封板和固定杆会逐渐向上移动，通过固定杆向上移动会推动橡胶轮和凸块进行转动，通过凸块转动会对装置本体内部的真空镀膜关闭，避免装置本体内部产生泄漏时真空镀膜仍然处于工作状态会对真空镀膜的效果产生影响，同时可以及时发现装置本体的内部产生泄漏。

13、（3）、该用于真空镀膜的栅格式离子源装置，通过净化框和进气管可以向装置本体的内部进行进气，净化板可以去除进入装置本体内部空气的杂质，避免外界的空气直接进入装置本体内部导致会有杂质进入装置本体的内部，支撑架移动时倾斜板会推动推动板，推动板会推动连接架和塞板将进气管及时密封，避免装置本体需要工作时没有及时将进气管密封会对装置本体内部的密封效果产生影响。

14、（4）、该用于真空镀膜的栅格式离子源装置，通过密封橡胶会通过盖门与装置本体之间的密封效果，盖门关闭时会推动联动杆进行移动，联动杆和活塞板移动时会挤压密封框内部的气体进入密封橡胶的内部密封橡胶会产生膨胀，凹形槽处于密封框内部的内外壁之间是会将密封框内部的气体排出导致密封橡胶会产生收缩，通过密封橡胶的间歇性的收缩和膨胀会提高异物从密封橡胶表面脱离的效果，防止异物粘附在密封橡胶的表面会影响盖门与装置本体之间的密封效果，同时盖门推动卡位块向上移动弹性块会撞击联动杆产生振动，从而可以进一步提高异物从盖门上脱离的效果。