1.一种用于真空镀膜的栅格式离子源装置，包括装置本体（1），其特征在于：还包括密封装置、感应装置和去除装置；其中，所述装置本体（1）的表面转动安装有盖门（2），所述密封装置包括固定板（31）、固定框（32）、卡位块（33）、密封板（34）、固定杆（35）、梯形块（36）、固定块（37）和限制杆（38），所述固定板（31）和固定框（32）均固定安装在装置本体（1）的顶部，所述卡位块（33）滑动贯穿固定板（31），所述密封板（34）滑动安装在固定框（32）的内部，所述固定杆（35）固定安装在密封板（34）的顶部，所述梯形块（36）固定安装在固定杆（35）的表面，所述固定块（37）固定安装在固定框（32）的内部，所述限制杆（38）滑动贯穿固定板（31）。
2.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜的栅格式离子源装置，其特征在于：所述卡位块（33）靠近盖门（2）的一侧设置为斜面，所述卡位块（33）与固定板（31）之间设置有一号弹簧，所述密封板（34）与固定框（32）之间设置有二号弹簧，所述限制杆（38）与固定板（31）之间设置有三号弹簧。
3.根据权利要求2所述的一种用于真空镀膜的栅格式离子源装置，其特征在于：所述感应装置包括支撑架（41）、摆动杆（42）、接触杆（43）、弹性伸缩杆（44）、橡胶轮（45）、凸块（46）、安装架（47）、控制开关（48）和传动块（49），所述支撑架（41）滑动安装在固定框（32）的顶部，所述摆动杆（42）转动安装在固定框（32）的表面，所述接触杆（43）滑动安装在装置本体（1）的顶部，所述弹性伸缩杆（44）一端与支撑架（41）铰接，所述弹性伸缩杆（44）的另一端与摆动杆（42）铰接，所述橡胶轮（45）转动安装在支撑架（41）的表面，所述凸块（46）固定安装在橡胶轮（45）的表面，所述安装架（47）固定安装在支撑架（41）的表面，所述控制开关（48）固定安装在安装架（47）的表面，所述传动块（49）固定安装在控制开关（48）的控制端。
4.根据权利要求3所述的一种用于真空镀膜的栅格式离子源装置，其特征在于：所述控制开关（48）与装置本体（1）电性连接，所述支撑架（41）与装置本体（1）之间设置有四号弹簧，所述摆动杆（42）与固定框（32）之间设置有一号扭簧。
5.根据权利要求4所述的一种用于真空镀膜的栅格式离子源装置，其特征在于：所述装置本体（1）的顶部设置有换气装置，换气装置包括净化框（51）、净化板（52）、进气管（53）、连接架（54）、塞板（55）、推动板（56）和倾斜板（57），所述净化框（51）固定安装在装置本体（1）的顶部，所述净化板（52）固定安装在净化框（51）的内部，所述进气管（53）固定安装在净化框（51）的顶部，所述连接架（54）滑动安装在进气管（53）的顶部，所述塞板（55）固定安装在连接架（54）的表面，所述推动板（56）滑动安装在净化框（51）的表面，所述倾斜板（57）固定安装在支撑架（41）的表面。
6.根据权利要求5所述的一种用于真空镀膜的栅格式离子源装置，其特征在于：所述连接架（54）与进气管（53）之间设置有五号弹簧，所述进气管（53）的顶部固定安装有电动推杆（61），所述电动推杆（61）的输出端固定安装有弹性板（62），所述弹性板（62）的表面固定安装有弧形块（63），所述连接架（54）的表面固定安装有撞击块（64）。
7.根据权利要求6所述的一种用于真空镀膜的栅格式离子源装置，其特征在于：所述去除装置包括密封橡胶（71）、密封框（72）、活塞板（73）、联动杆（74）和插杆（75），所述盖门（2）的表面设置有凹槽，所述密封橡胶（71）固定安装在凹槽的内部，所述密封框（72）固定安装在装置本体（1）的顶部，所述活塞板（73）滑动安装在密封框（72）的内部，所述联动杆（74）固定安装在活塞板（73）的表面，所述插杆（75）固定安装在活塞板（73）的表面，所述插杆（75）的表面开设有凹形槽，所述活塞板（73）的右侧通过管道与密封橡胶（71）的内部连通。
8.根据权利要求7所述的一种用于真空镀膜的栅格式离子源装置，其特征在于：所述活塞板（73）与密封框（72）之间设置有六号弹簧，所述插杆（75）滑动贯穿密封框（72），所述卡位块（33）的表面固定安装有弯曲杆（76），所述弯曲杆（76）的表面固定安装有弹性块（77）。