技术编号:36016559
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及电去离子装置的控制方法。背景技术.以往,半导体等电子工业领域中使用的超纯水通过由前处理系统、一次纯水制造装置以及对一次纯水进行处理的二次纯水制造装置(子系统)构成的超纯水制造装置对原水进行处理来制造。.这种超纯水制造装置中包括的一次纯水制造装置是除了用于超纯水制造装置的领域,还用于医药用、食品用等各种领域的通用性高的系统。作为一次纯水制造装置的构成,通常由二段结构的反渗透膜(ro膜)装置以及电去离子装置构成,反渗透膜(ro膜)装置去除二氧化硅、盐类,并且去除离子型、胶体型toc...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。