电去离子装置的控制方法与流程

本发明涉及电去离子装置的控制方法。

背景技术：

1、以往，半导体等电子工业领域中使用的超纯水通过由前处理系统、一次纯水制造装置以及对一次纯水进行处理的二次纯水制造装置(子系统)构成的超纯水制造装置对原水进行处理来制造。

2、这种超纯水制造装置中包括的一次纯水制造装置是除了用于超纯水制造装置的领域，还用于医药用、食品用等各种领域的通用性高的系统。作为一次纯水制造装置的构成，通常由二段结构的反渗透膜(ro膜)装置以及电去离子装置构成，反渗透膜(ro膜)装置去除二氧化硅、盐类，并且去除离子型、胶体型toc。

3、此处，电去离子装置通常具有：在阴极和阳极之间交替地排列阳离子交换膜和阴离子交换膜来交替地形成脱盐室和浓缩室、并且在脱盐室中填充了离子交换树脂的结构，进行各种无机或有机性阴离子以及阳离子的去除。

4、向该电去离子装置的脱盐室供给水时，水中的离子在其电荷的作用下向脱盐室内的阳极/阴极中的任意一种离子交换树脂的方向移动。移动的离子通过离子交换树脂并进入浓缩室，因此，在脱盐室内制造高度脱盐的纯水。另一方面，向浓缩室移动的离子作为浓缩水排出。

5、从稳定制造规定的水质的一次纯水的观点出发，电去离子装置进行将对电去离子装置供水的供给条件设为固定的运用。因此，进行以下运用：将通过包括电去离子装置的一次纯水制造装置制造的一次纯水中的需要量供给至二次纯水制造装置的副槽，另一方面，多余生产的一次纯水在一次纯水制造装置内循环利用。

技术实现思路

1、发明要解决的问题

2、然而，如上所述，在一次纯水制造装置的以往的运用方法中，向电去离子装置等供给需要量以上的供水并处理，因此，在能量效率方面存在改善的余地。因此，认为根据一次纯水的需要量来改变电去离子装置的处理量，在电去离子装置的运转中，当瞬间减少对电去离子装置供给的供水的流量时，浓缩水的电导率暂时上升。浓缩水的电导率增加时，浓缩室内的离子浓度升高，存在容易产生水垢的问题。

3、本发明是鉴于上述问题而完成的，其目的在于，提供一种在减少对电去离子装置供给的供水的流量的情况下也防止电导率的升高，由此抑制水垢产生的电去离子装置的控制方法。

4、用于解决问题的手段

5、鉴于上述目的，本发明提供一种电去离子装置的控制方法，其为电去离子装置的控制方法，其中，将从所述电去离子装置排出的浓缩水的流量保持恒定，并且阶段性地减少对所述电去离子装置供给的供水的流量(发明1)。

6、根据上述发明(发明1)，通过将从电去离子装置排出的浓缩水的流量保持恒定，并且阶段性地减少对电去离子装置供给的供水的流量，防止浓缩水的电导率的升高，由此能够抑制水垢的产生。

7、在上述发明(发明1)中，在每一阶段减少的所述供水的流量可以为所述电去离子装置中的最大流量的10％以下的流量(发明2)。

8、在上述发明(发明1或2)中，阶段性地减少所述供水的流量时的每一阶段的时间可以为1～10分钟(发明3)。

9、在上述发明(发明1～3)中，可以通过pid控制来阶段性地减少对所述电去离子装置供给的供水的流量(发明4)。

10、发明的效果

11、根据本发明的物品接收系统，能够提供在减少对电去离子装置供给的供水的流量的情况下也防止电导率的升高，由此抑制水垢产生的电去离子装置的控制方法。

技术特征：

1.一种电去离子装置的控制方法，其中，

2.如权利要求1所述的电去离子装置的控制方法，其中，

3.如权利要求1或2所述的电去离子装置的控制方法，其中，

4.如权利要求1～3中任一项所述的电去离子装置的控制方法，其中，

技术总结
本发明的电去离子装置(1)的控制方法将从电去离子装置(1)排出的浓缩水(W5)的流量保持恒定，并且阶段性地减少对电去离子装置(1)供给的供水(W1)的流量。根据这种电去离子装置的控制方法，在减少对电去离子装置供给的供水的流量的情况下，也能够防止电导率的升高，由此抑制水垢的产生。

技术研发人员：田部井丽奈,港康晴
受保护的技术使用者：栗田工业株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/1/16