技术编号:3616395
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及甲硅烷基化硅石及其制备方法。背景技术以BET法表面积为基准(DIN 66131及66132),对应于超过0.6/nm3的SiOH密度,残留硅醇含量超过母体硅石的硅醇基含量25%地甲硅烷基化硅石具有下列缺点经由硅石表面硅醇基间的氢键,超过25%的残留硅醇含量导致硅石微粒间的强相互作用及因此的严重的稠化效果,在聚合物及树脂系统内向获得高填充度进行期间,该稠化效果受到破坏。在粉末系统内,超过25%的残留硅醇含量导致微粒相互作用及因此的再附聚及分离。此种...
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