技术编号：36366144
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及极紫外光刻光源技术领域，具体为一种毛细管放电极紫外光刻双真空光源装置。背景技术.波长为.nm的极紫外(euv)光源既可提供nm以下的可分辨极限线宽，还能够保持一定的焦深，适于极紫外光刻(euvl)大规模工业化生产的要求。极紫外光源一般来源于同步射源、激光等离子体光源、气体放电等离子体光源和激光放电复合等离子体光源，各种极紫外光源的产生及其特性如表所示。同步辐射源造价高，装置复杂，操作难度大，电子注入麻烦，难以适合大规模工业化生产。激光等离子体光源先将电能转化为光能，再...
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