技术编号:36406601
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及含氟废水处理技术领域,具体是涉及一种含氟废水混凝沉淀设备。背景技术.随着半导体行业的发展,半导体生产量的提升,半导体生产过程中硅片刻蚀,清洗等过程会产生大量的含酸废水和含氟废水。含氟废水在处理过程中,需要使用混凝沉淀装置;目前含氟废水混凝沉淀装置大多采用斜管沉淀池进行沉淀,为了提高含氟废水的处理效率,通常会辅助增加混凝池和絮凝池,但是这种独立设置方法不仅占用面积大,同时增加废水处理成本,缩减经济效益。.中国专利cnu公开了一种半导体行业含氟废水混凝沉淀装置,包...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。