技术编号:3652617
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及(i)一种用于抗蚀剂用途的新颖聚合物,(ii)一种在微布线图案制作技术中使用的包含以该聚合物作为基础树脂的抗蚀剂组合物,和(iii)一种使用该抗蚀剂组合物的布线图案制作方法。背景技术 尽管为使LSI器件有更高的集成度和运行速度,近来作了许多努力以获得更细微尺度的布线图案,但深紫外线光刻技术被认为在下一代微制造技术中是特别有希望的。特别地,强烈地希望使用KrF或ArF准分子激光器为光源的光刻法,以达到如能够获得特征尺寸为0.3μm或更小的微布线图案...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。