技术编号：36527881
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及基板固定装置。背景技术.在现有技术中，制造诸如ic和lsi等半导体器件时使用的膜形成设备(例如，cvd设备、pvd设备等)和等离子体蚀刻设备具有用于在真空处理腔中精确保持晶片的台。作为这种台，例如，提出了一种基板固定装置，该基板固定装置通过安装在底板上的静电吸盘来吸附并且保持作为待吸附的目标对象的晶片。基板固定装置包括例如用于调节晶片温度的发热元件和覆盖发热元件的绝缘(隔绝)层(例如，参照专利文献)。.引文列表.专利文献.专利文献：日本专利no.发明内容...
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