技术编号:3672137
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻领域。更具体地说,本发明涉及含有缩醛键的光致抗蚀剂聚合物以及其在光刻(lithographic)光致抗蚀剂组合物中的用途,尤其是在化学增幅光致抗蚀剂中的用途。背景技术化学增幅光致抗蚀剂由于在MSnm和更短的波长下具有更好的曝光速度 (photo-speed),同时在亚0. 25微米的范围中提供可接受的图像空间分辨率,所以已取代断链光致抗蚀剂(chain-scission photoresists)。但是,对于高级图案化节点(advanced ...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。