技术编号：36726816
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。【】本发明光刻，特别涉及一种光刻机精细匹配的优化方法、系统及存储介质。背景技术、【背景技术】、在半导体集成电路的制造过程中，光刻机是十分重要的一个设备，但是不同供应商的对标的光刻机之间或者同一供应商的同一型号的不同光刻机之间由于设备的环境不完全一样，导致最后设备虽然设置的参数一样，但最终针对某一产品进行曝光时，其性能还是有差异。、光刻机匹配的实际场景是希望参数只需要做一些微小的改变，不希望做大的调整，现有的方式使用的算法做优化时无法做到对每一个参数进行精准的控制。多个参数一同优化的缺点就是...
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