技术编号：36727124
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明主要涉及半导体制备，具体涉及一种用于电子束曝光机的图形发生器电路系统。背景技术、电子束曝光是利用电子束在涂有电子抗蚀剂的晶片上直接描画或投影复印图形的技术，可以获得极高的分辨率，主要用于制造掩膜版或直接刻画制造芯片。基本工作原理是利用束闸、聚焦和偏转磁场控制电子束通断、聚焦和偏移，从而在工件上刻画所需要的图形的一种设备。图形发生器是电子束曝光系统中的一个核心部件,用于将计算机送来的曝光图形数据进行处理并转换成电子束直写设备要曝光的各点x、y坐标值，再通过数模转换模块将曝光的坐标值变换成对...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。