技术编号:36737227
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明例示的实施方式涉及等离子体监控系统、等离子体监控方法及监控装置。背景技术、专利文献中公开了一种涉及等离子体处理装置的技术。该等离子体处理装置包含:处理室,进行等离子体处理;及光学检测器,经由检测窗而设置在处理室的外侧。光学检测器监视在处理室内产生的等离子体的状态。、以往技术文献、专利文献、专利文献:日本特开-号公报技术实现思路、发明要解决的技术课题、本发明提供用于取得等离子体处理装置内的等离子体的发光强度分布数据的技术。、用于解决技术课题的手段、在一例...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。