技术编号：36790381
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及在装有多个半导体制造设备(例如：气体供应设备)的半导体制造设施中，从每个半导体制造设备产生的排放气体通过半导体排放管道排放到外部的过程中，自动维持半导体排放管道的压差的设备的技术。更具体地说，本发明涉及当由于大气压和从半导体制造设备到半导体排放管道的排放压力之间的差异导致的当前压差低于设定范围时，通过阀门将压差增加到设定范围；当当前压差超过设定范围时，通过阀门将压差降低到设定范围。这项技术是为了自动维持半导体排放管道的压差。背景技术、图是一个示例图，表示在半导体制造设备中安装了半导...
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