技术编号:3703899
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。背景技术1.发明领域本发明涉及用于微电子结构如集成电路的酚醛清漆聚合物平面化薄膜。更具体地说,本发明涉及一种形成当加热时仍然粘着在基片上的平面化薄膜的改进方法。2.发明背景酚醛清漆聚合物已经被广泛用于制造基片如多片组件、印制电路版、集成电路和其他微电子器件。例如对于微细图形光刻形成电路图案所使用的光刻胶常常含有酚醛清漆组份。请参见,例如Wolf等人,超大规模集成电路时代的硅加工,1加工工艺(Silicon Processingfor the VLSI Er...
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