技术编号:3708458
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。背景技术本发明涉及适用作正性的水溶性光致抗蚀剂的水溶性聚合物。光致抗蚀组合物用于微蚀刻工艺来制造微型化电子元件例如用于制造计算机芯片和集成电路的微型化电子元件。一般来说,在这些工艺中,先在基片(如用于制造集成电路的硅片)上涂布一层薄的光致抗蚀组合物涂层或涂膜。然后将经涂布的基片加热以使光致抗蚀组合物中溶剂蒸发,使涂层粘固在该基片上。接着,基片的已涂布表面以掩膜掩蔽并进行辐射曝光。这种辐射曝光会在已涂布表面的曝光区域引起化学转变。可见光、紫外光(UV)、电子...
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