技术编号：37099307
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及原子层沉积，特别涉及一种镀膜设备。背景技术、现有技术中，原子层沉积技术传统设计为时间型单片式ald设备：样品台上只承载一个样品，第一反应物和第二反应物按照上述顺序进入样品所在的反应空间中进行沉积(个循环大约-s)。另一种设备为时间型炉式ald设备：样品架可以是立式或者卧式，其承载样品数大约为-片，样品架置于反应腔室里(该反应腔比单片式要大得多的腔室)，第一反应物和第二反应物按照上述顺序进入样品所在的反应空间中进行沉积。由于反应腔室很大，在第一反应物和第二反应物之间，...
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