镀膜设备的制作方法

本发明涉及原子层沉积，特别涉及一种镀膜设备。

背景技术：

1、现有技术中，原子层沉积技术传统设计为时间型单片式ald设备：样品台上只承载一个样品，第一反应物和第二反应物按照上述顺序进入样品所在的反应空间中进行沉积(1个循环大约3-20s)。另一种设备为时间型炉式ald设备：样品架可以是立式或者卧式，其承载样品数大约为25-150片，样品架置于反应腔室里(该反应腔比单片式要大得多的腔室)，第一反应物和第二反应物按照上述顺序进入样品所在的反应空间中进行沉积。由于反应腔室很大，在第一反应物和第二反应物之间，需要充足的时间冲洗完全，所以完成一个循环的时间要比单片式长(60s-360s)，但由于每次样片装载量比单片式要多，所以提高了生产效率。现有技术中，还存在一种采用惰性气体分隔第一反应物和第二反应物，使反应室内同时具有第一反应物与第二反应物的设备，该设备能够省去第一反应物与样品反应后进行样品冲洗的时间，有效提高了原子层沉积效率。但由于反应室内同时具有第一反应物与第二反应物，即使具有惰性气体对其进行分隔，也容易导致第一反应物与第二反应物掺杂在一起，不利于提高产品的良品率。因此，有必要设计一种原子层沉积设备，进一步提高原子层沉积质量的优良性。

技术实现思路

1、本发明的主要目的是提出一种镀膜设备，旨在解决如何提高原子层沉积质量的技术问题。

2、为实现上述目的，本发明提出一种镀膜设备，用于给样品进行镀膜，其特征在于，所述镀膜设备包括：

3、定位部，用于定位所述样品；

4、供给单元，用于对所述定位部定位的所述样品供给气体，所述供给单元包括相邻布置的第一气体单元以及第二气体单元；

5、驱动部，用于驱动所述定位部和/或所述供给单元运动，以使所述第一气体单元与所述第二气体单元能够依次向所述样品供给气体；

6、其中，所述供给单元还包括隔板，所述隔板设于所述第一气体单元与所述第二气体单元之间，所述隔板设有排气通道，以用于排出所述第一气体单元和/或所述第二气体单元供给的气体。

7、在一些实施例中，所述定位部包括多个分别定位所述样品的定位位置，各所述定位位置沿第一轴线的周向分布；

8、所述供给单元还包括第三气体单元以及第四气体单元，所述第一气体单元用于供给第一反应气体，所述第二气体单元用于供给惰性气体，所述第三气体单元用于供给第二反应气体，所述第四气体单元用于供给惰性气体；所述第一气体单元、所述第二气体单元、所述第三气体单元以及所述第四气体单元沿所述第一轴线的周向依次间隔布置；

9、所述驱动部配置成用于驱动所述定位部以所述第一轴线为转动轴线转动。

10、在一些实施例中，所述第一气体单元、所述第二气体单元、所述第三气体单元以及所述第四气体单元两两之间均设有一个所述隔板。

11、在一些实施例中，所述隔板沿平行于所述第一轴线的方向延伸且沿所述第一轴线的周向分隔自身两侧的空间，所述隔板沿所述第一轴线的周向的两侧均设有气体导出口，各所述气体导出口均连通所述排气通道。

12、在一些实施例中，所述隔板沿垂直于所述第一轴线的方向延伸，且所述隔板沿平行于所述第一轴线的方向的一侧设有气体导出口，所述气体导出口连通所述排气通道。

13、在一些实施例中，所述镀膜设备包括多个所述定位部，各所述定位部沿平行于所述第一轴线的方向间隔排列，每个所述定位部均用于定位多个所述样品；

14、所述镀膜设备包括多个所述供给单元，各所述供给单元沿平行于所述第一轴线的方向间隔排列，每个所述定位部沿平行于所述第一轴线的方向的至少一侧设有一个所述供给单元。

15、在一些实施例中，沿平行于所述第一轴线的方向，各所述供给单元与各所述定位部一一交替间隔设置。

16、在一些实施例中，所述定位组件还包括连接部，所述连接部连接各所述定位部沿垂直于所述第一轴线的方向的中部，所述驱动部驱动所述连接部，以驱动所述定位组件绕所述转动轴线转动。

17、在一些实施例中，所述定位部沿平行于所述第一轴线的方向的一侧用于定位所述样品，且每个所述样品均至少由一个所述供给单元进行供给；

18、或者，

19、所述定位部沿平行于所述第一轴线的方向的两侧均用于定位所述样品，且每个所述样品均至少由一个所述供给单元进行供给；

20、或者，

21、所述定位部设有沿平行于所述第一轴线的方向贯穿的通孔，所述定位部配置成定位所述样品后覆盖所述通孔，以使得所述样品沿平行于所述第一轴线的方向的一侧的壁面能够由至少一个所述供给单元供给、沿平行于所述第一轴线的方向的另一侧的壁面能够由至少一个所述供给单元供给。

22、在一些实施例中，所述定位部设有沿所述第一方向贯穿的通孔，所述定位部配置成定位所述样品后覆盖所述通孔，以使得所述样品沿所述第一方向的一侧的壁面能够由至少一个所述供给单元供给、沿所述第一方向的另一侧的壁面能够由至少一个所述供给单元供给；

23、每个所述供给单元均配置成能够给沿所述第一方向的两侧的所述样品进行供给。

24、与现有技术相比，本发明的有益效果是：

25、在本发明的技术方案中，镀膜设备包括定位部、供给单元以及驱动部。定位部用于定位样品，供给单元用于对样品供给气体，驱动部用于驱动定位部和/或供给单元运动。其中，供给单元包括第一气体单元、第二气体单元以及隔板，隔板设于第一气体单元与第二气体单元之间，以便对第一气体单元喷出的气体与第二气体单元喷出的气体起到物理隔离作用，有效提高了样品的镀膜质量。其中隔板设有排气通道，该排气通道用于排出第一气体单元和/或第二气体单元供给的气体。排气通道的设置能够使第一气体单元和/或第二气体单元供给的气体及时排出，避免气体长时间停留于镀膜设备内，造成多种气体混合而使得样品受到气体污染，并且，该排气方式能够有效平缓气流，避免排气气流过于快速而影响样品镀膜的均匀性，因此本方案提高了镀膜设备的镀膜质量。

技术特征：

1.一种镀膜设备，用于给样品进行镀膜，其特征在于，所述镀膜设备包括：

2.如权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，

3.如权利要求2所述的镀膜设备，其特征在于，

4.如权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，

5.如权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，

6.如权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，

7.如权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，

8.如权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，

9.如权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，

10.如权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，

技术总结
本发明公开了一种镀膜设备，镀膜设备包括定位部、供给单元以及驱动部。定位部用于定位样品，供给单元用于对样品供给气体，驱动部用于驱动定位部和/或供给单元运动。供给单元包括第一气体单元、第二气体单元以及隔板，隔板设于第一气体单元与第二气体单元之间，以便对第一气体单元喷出的气体与第二气体单元喷出的气体起到物理隔离作用，有效提高了样品的镀膜质量。隔板设有排气通道，排气通道的设置能够使第一气体单元和/或第二气体单元供给的气体及时排出，避免气体长时间停留于镀膜设备内，造成多种气体混合而使得样品受到气体污染，因此本方案提高了镀膜设备的镀膜质量。

技术研发人员：请求不公布姓名,请求不公布姓名,请求不公布姓名,请求不公布姓名
受保护的技术使用者：深圳市原速科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/2/21