技术编号:3710134
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及丙烯酸系共聚物与辐射敏感性树脂组合物,尤其是涉及可适合作为用于采用KrF受激准分子激光或ArF受激准分子激光等的远紫外线、同步加速器放射线等的X射线、电子束等的带电粒子线之类各种的放射线微细加工的化学增幅型抗蚀剂使用的辐射敏感性树脂组合物。背景技术 制造集成电路器件所代表的微细加工领域,为了获得更高的集成度最近需要使用ArF受激准分子激光(波长193nm)、F2受激准分子激光(波长157nm)可微细加工到200nm左右以下水平的光蚀刻技术。作为适...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。