技术编号：37138822
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及粒子射束成像，特别是基于电子射束的衍射成像。更具体地，本发明涉及一种用于电子成像应用中的传感器保护的系统，传感器保护基于控制暴露于成像传感器的射束信号的射束强度。背景技术、传统上，可使用光学模型来实现成像传感器的信号剂量保护以从透镜电流导出成像传感器处的射束强度。然而，这可能难以扩展到基于衍射、能量过滤透射电子显微镜(eftem)和/或电子能量损失光谱学(eels)的成像应用。、使用直接电子检测器(ded)可实现增大的信噪比(snr)，其可用于减小射束强度以限制由电子射束辐照到样本...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。