技术编号:37155262
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及基板处理装置。特别是,本发明涉及在立式(成膜直立位置)处理被处理基板的、沉积、溅射、cvd等成膜处理、加热处理等对基板的处理中使用的基板处理装置。背景技术、在半导体器件领域、平板显示器(fpd)领域中,作为在基板(被处理体)上形成各种薄膜的方法,使用溅射或沉积。在溅射装置中,在维持减压气氛的腔室内,以与安装在阴极上的靶相对的方式配置掩模和基板,并对基板进行成膜。在沉积装置中,在维持减压气氛的腔室内,在沉积源与基板之间配置掩模,并对基板进行成膜。、以往,如专利文献所公开的那样,已知...
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