技术编号:37188586
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本技术涉及清洁,特别是涉及一种镀膜设备的载板清洁装置及镀膜设备。背景技术、在制备太阳电池时,通常采用等离子体增强化学气相沉积(pecvd)工艺在硅片上制备非晶硅薄膜。具体地,先将硅片放置在载板上,然后通过运输载板将硅片运输到腔室内进行非晶硅薄膜的沉积。、然而,当将硅片放置在载板上以及载板在运输的过程中,不可避免的会有粉尘等杂质掉落在载板上,如果带有粉尘等杂质的载板运输到腔室内,则会导致后续制备的非晶硅薄膜出现麻点和黑点的问题,严重影响非晶硅薄膜的质量。为了去除载板上的粉尘等杂质,传统方法通常...
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