本技术涉及清洁,特别是涉及一种镀膜设备的载板清洁装置及镀膜设备。
背景技术:
1、在制备太阳电池时,通常采用等离子体增强化学气相沉积(pecvd)工艺在硅片上制备非晶硅薄膜。具体地,先将硅片放置在载板上,然后通过运输载板将硅片运输到腔室内进行非晶硅薄膜的沉积。
2、然而,当将硅片放置在载板上以及载板在运输的过程中,不可避免的会有粉尘等杂质掉落在载板上,如果带有粉尘等杂质的载板运输到腔室内,则会导致后续制备的非晶硅薄膜出现麻点和黑点的问题,严重影响非晶硅薄膜的质量。为了去除载板上的粉尘等杂质,传统方法通常使用气枪对载板进行水平吹扫。为了将载板吹扫干净,通常需要提高气枪的吹扫功率。然而,在对载板进行水平吹扫时,由于粉尘等杂质质量较轻,容易出现扬尘,且产生的扬尘到处飞溅,影响其他载板的清洁度,从而无法完全将载板清洁干净。
技术实现思路
1、基于此,有必要提供一种能够降低气枪吹扫功率且能够提高载板清洁度的镀膜设备的载板清洁装置。
2、另,还有必要提供一种镀膜设备。
3、本实用新型至少一实施例提供一种镀膜设备的载板清洁装置,包括:
4、用于吹扫载板的吹扫组件;
5、第一驱动机构,与所述吹扫组件连接,所述第一驱动机构用于驱动所述吹扫组件沿所述平移导轨滑动;
6、升降导轨,所述平移导轨滑动设置于所述升降导轨上;
7、第二驱动机构,与所述平移导轨连接,所述第二驱动机构用于驱动所述平移导轨沿所述升降导轨滑动;用于抽吸吹扫载板后产生的扬尘的吸嘴;以及
8、集尘室,所述集尘室和所述吸嘴连通。
9、在其中一些实施例中,所述载板清洁装置还包括:
10、旋转接头,所述旋转接头和所述吹扫组件连接,所述旋转接头控制所述吹扫组件的吹扫方向。
11、在其中一些实施例中,所述吹扫组件的吹扫方向与所述载板平行、垂直或倾斜。在其中一些实施例中,所述吹扫组件包括气枪。
12、在其中一些实施例中,所述吸嘴为圆吸嘴,所述吸嘴的数量为多个。
13、在其中一些实施例中,所述载板清洁装置还包括:
14、空心管,所述空心管上设有所述吸嘴,所述空心管连通所述吸嘴和所述集尘室;以及
15、转动装置,所述转动装置包括转动本体和转动连接于所述转动本体上的转动组件,所述转动组件和所述空心管连接,所述转动本体通过驱动所述转动本体转动,以带动所述空心管和吸嘴转动,并同时使所述吸嘴上下运动。
16、在其中一些实施例中,所述载板清洁装置还包括:
17、气管,所述气管设置于所述空心管和所述集尘室之间,且连通于所述空心管和所述集尘室;以及
18、隔离网,所述隔离网设置于所述气管和所述集尘室之间。
19、在其中一些实施例中,所述载板清洁装置还包括:
20、过滤网,所述过滤网设置于所述隔离网和所述集尘室之间,所述过滤网的孔径小于所述隔离网的孔径。
21、本实用新型至少一实施例提供一种镀膜设备,包括机台,所述镀膜设备还包括上述的载板清洁装置,所述载板清洁装置设置于所述机台上。
22、在其中一些实施例中,所述载板清洁装置还包括:
23、粘尘纸,所述粘尘纸设置于所述机台内壁上。
24、本实用新型提供的镀膜设备的载板清洁装置包括吹扫组件、平移导轨、第一驱动机构、升降导轨、第二驱动机构、吸嘴以及集尘室,所述吹扫组件能够对载板上的粉尘等杂质进行吹扫,所述平移导轨和所述第一驱动机构能够使所述吹扫组件水平运动,所述升降导轨和第二驱动机构能够使所述吹扫组件上下运动,以使所述吹扫组件更好的吹扫载板,并降低所述吹扫组件的吹扫功率,随后由所述吹扫组件吹扫载板所产生的扬尘通过所述吸嘴吸入到所述集尘室内,防止扬尘到处飞溅,避免影响其他载板,有效提高了载板的清洁度,实现了较好的清洁效果,从而有利于提高后续制备的非晶硅薄膜的质量。
1.一种镀膜设备的载板清洁装置(100),其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的载板清洁装置(100),其特征在于,还包括:
3.如权利要求2所述的载板清洁装置(100),其特征在于,所述吹扫组件(10)的吹扫方向与所述载板平行、垂直或倾斜。
4.如权利要求1所述的载板清洁装置(100),其特征在于,所述吹扫组件(10)包括气枪。
5.如权利要求1所述的载板清洁装置(100),其特征在于,所述吸嘴(50)为圆吸嘴,所述吸嘴(50)的数量为多个。
6.如权利要求1至5中任一项所述的载板清洁装置(100),其特征在于,还包括:
7.如权利要求6所述的载板清洁装置(100),其特征在于,还包括:
8.如权利要求7所述的载板清洁装置(100),其特征在于,还包括:
9.一种镀膜设备,包括机台,其特征在于,所述镀膜设备还包括如权利要求1至8中任一项所述的载板清洁装置(100),所述载板清洁装置(100)设置于所述机台上。
10.如权利要求9所述的镀膜设备,其特征在于,所述载板清洁装置(100)还包括: