技术编号:37219420
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体废气处理领域,具体涉及一种废气处理设备。背景技术、半导体制造工艺中需要使用多种特殊气体,其中包括工艺气体:硅烷、磷化氢、三氢化砷、氨、三氯化硼、三氟化硼、氯、二氯磺酞、四氯化硅、氢化硫、碘化硫和氯化氢等,这些气体在半导体制造的不同工艺中使用,产生的废气通过排风系统收集并处理,这些废气如果没有经过很好的处理便进行排放,会造成大气污染,影响人们的身体健康,也会成为半导体制造中气态分子污染物的重要来源。、目前,针对这种气体排放,一般采用水洗、吸附、焚烧或两者相结合的处理方法。洗涤器...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。