技术编号:37272371
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于厚钨涂层生产制备的,尤其涉及一种细晶强化的厚钨涂层及其制备方法和面对等离子体部件。背景技术、钨具有熔点高、高热导率和低溅射率低等特点,是最具潜力的面对等离子体材料(plasma facing materials,pfm)的候选材料之一。未来聚变堆装置具有运行时间长、热通量大和服役环境苛刻等特点,在高温等离子体的实际工况下,长时间高通量的热负荷容易使作为pfm的纯钨材料表面发生再结晶退化、塑性变形和局部熔化、宏观大裂纹,从而对等离子体的杂质控制和装置安全造成不利影响。此外,聚变装置中面...
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