一种低张力ito蚀刻液及其制备方法技术资料下载

技术编号:3730124

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本发明涉及一种ITO蚀刻液及其制备方法,尤其涉及一种草酸型低张力ITO蚀刻液及其制备方法。背景技术ITO是hdium Tin Oxides的缩写,作为纳米铟锡金属氧化物,具有很好的导电性和透明性,可以切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线。因此,铟锡氧化物通常喷涂在玻璃、塑料及电子显示屏上,用作透明导电薄膜,同时减少对人体有害的电子辐射及紫外、红外。草酸型ITO蚀刻液,本品为无色透明液体,显酸性,该产品主要用于TFT_IXD、LED、 OLED等行业用...
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