技术编号:37307279
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本技术涉及半导体,具体是一种便于提高外延片均匀性的石墨盘。背景技术、随着科学技术的不断发展,在mocvd外延生长半导体材料过程中,衬底放置于载片盘上,载片盘高速旋转可以保证外延生长的均匀性和一致性,目前,mocvd设备中的载片盘材质多选用由高纯石墨制成的石墨盘。、目前在外延片的成长过程中气流和温度操控等技能仍存在一些问题,使得石磨盘上沉积的外延片表面平整度与均匀性存在一定瑕疵,影响外延沉积的品质与精度。、因此,我们提出了一种便于提高外延片均匀性的石墨盘。技术实现思路、本实用新型的目的在于...
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