技术编号：37374458
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及包括具有单个驱动的两个以上的喷嘴的喷嘴单元的基板处理装置及包括其的基板处理方法。背景技术、通常，根据半导体元件的高密度、高集成化、高性能化电路图案的微细化急速地进行，从而在基板表面残留的颗粒(particle)、有机污染物、金属污染物等污染物质会对元件特性和生产率产生很多影响。因此，除去在基板表面附着的各种污染物质的清洗工艺在半导体制造工艺中起非常重要的带头，并且在制造半导体的各单位工艺的前后步骤中实施将基板清洗处理的工艺。、在当前半导体制造工艺中使用的清洗方法大体分为干式清洗(d...
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