技术编号：3740770
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于抛光液制备方法，特别是涉及硬盘磷化铟(InP)基板的抛光液制备方法。背景技术近年来，计算机技术突飞猛进，作为计算机数据存储的主要部件硬盘，向大容 量、高转速、小体积和高安全性的方向发展。要使单片容量增加，就对硬盘基板抛光后 的表面状况提出了很高的要求。现有提高硬盘基板表面状况的CMP技术是主流技术。 抛光后硬盘基板表面粗糙度下降至O.lnm以下，波纹度小于0.2nm，在很大程度上提高了 单片硬盘的存储容量。制造硬盘基板的材料主要有InP/Al合金...
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