技术编号:37544556
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及真空镀膜,具体为一种粉末改性的真空滚筒镀膜设备。背景技术、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。对于粉体材料,通过真空镀膜处理,提升其表面硬度、耐腐蚀性及光学性能,其应用范围必将进一步扩大。、为了解决粉末改性的真空滚筒镀膜问题,公告号为cnu的专利公开了一种粉末镀膜设备,包括真空室、热丝电极、磁控靶、多工位转靶、离子枪及反弹振动装置,所述真空室内反弹振动装置的样品盘上方设置热丝电极、...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。