技术编号：3765984
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及在被处理衬底上涂布液体而形成涂布膜的涂布方法和涂布装置。 背景技术 一直以来，在LCD和半导体器件等制造加工的光刻工序中，作为为了在被处理衬底(玻璃衬底，半导体晶片等)上涂布抗蚀剂液而采用抗蚀剂喷嘴的一种方式，例如，特开平8-138991所公开的有狭缝状喷出口的长条型或狭缝型的喷嘴已公知。在使用这样的狭缝型抗蚀剂喷嘴的涂布装置中，在载置台或保持板上水平载置的衬底的上面(被处理面)和喷嘴下端部的喷出口之间设定数百μm以下的微小间隙，在衬底上方，一边...
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