专利名称：涂布方法和涂布装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及在被处理衬底上涂布液体而形成涂布膜的涂布方法和涂布装置。
背景技术：
一直以来，在LCD和半导体器件等制造加工的光刻工序中，作为为了在被处理衬底(玻璃衬底，半导体晶片等)上涂布抗蚀剂液而采用抗蚀剂喷嘴的一种方式，例如，特开平8-138991所公开的有狭缝状喷出口的长条型或狭缝型的喷嘴已公知。
在使用这样的狭缝型抗蚀剂喷嘴的涂布装置中，在载置台或保持板上水平载置的衬底的上面(被处理面)和喷嘴下端部的喷出口之间设定数百μm以下的微小间隙，在衬底上方，一边相对于衬底水平相对移动該抗蚀剂喷嘴一边向衬底的上面喷出抗蚀剂液。此时，在水平移动的喷嘴下端部，从喷出口溢出到衬底上的抗蚀剂液平坦地延伸，然后在衬底上以一定的膜厚形成抗蚀剂液的涂布膜。这样，喷嘴下端与衬底上面之间的间隙是支配涂布膜的膜厚和抗蚀剂消耗量的重要参数，需要管理或者维持该间隙为一定值。
因此，在现有的涂布装置中，在载置台上设置各自独立动作的多个真空吸附口，在衬底上离散设定的多个代表点上，用间隙传感器检测喷嘴下端与衬底上面之间的间隙，对间隙偏离设定值的地方加减调整其附近由真空吸附口产生的真空吸附力，以便校正衬底的翘曲和变形。这种间隙传感器，作为光学式距离传感器而构成，从例如由半导体激光器或发光二极管构成的投光元件，向衬底的上面垂直向下射出光线，经由聚光透镜使从衬底上面反射来的光在位置检测器件上成像，由该成像位置求出距离间隔即间隙的大小。
如上述那样的现有涂布装置，对衬底本身的翘曲和变形，尽管可以以真空吸附力进行矫正，然而对衬底上面附着的异物(颗粒，垃圾，碎片等)和夹在衬底与载置台之间的异物安全地处理是困难的。即，如上述那样，从衬底上面空出数百μm以内的间隙，相对于衬底水平相对移动抗蚀剂喷嘴时，在衬底上面附着接近间隙的尺寸或比其还大的异物的话，则抗蚀剂喷嘴的下端部或喷出部介以异物摩擦衬底上面。或者，衬底与载置台之间夹着异物的话，在其附近衬底因为胀起，抗蚀剂喷嘴的喷出部就有碰抵并摩擦衬底上面的问题。这样抗蚀剂喷嘴的喷出部摩擦衬底的上面的话，不仅衬底失去产品价值，而且价格高昂的抗蚀剂喷嘴方面也受到损伤或者损坏而不能使用。
还有，现有涂布装置的间隙传感器每次检测1个地点的间隙，可靠地检测衬底上不定地点可能存在的异物比较困难。而且，和衬底本身翘曲的情况不同，因为衬底和载置台之间夹着的异物而使衬底翘曲时，即使在载置台侧如何地调节其附近的真空吸附力，也不可能使衬底上面平坦化，难以避免抗蚀剂喷嘴和衬底之间对接或者滑接。
发明内容
本发明就是鉴于这样的现有技术问题点而作出的，其主要目的是提供在被处理衬底的上面或接近被处理面的高度位置上安全地执行使喷嘴扫描的涂布动作的涂布方法和涂布装置。
为达成上述的目的，本发明的涂布方法，在以第1高度位置大致水平地支承被处理衬底，使向上述衬底的上面从上方接近的位置喷出涂布液的喷嘴相对于上述衬底进行相对水平方向移动的扫描，在上述衬底上面涂布上述涂布液的涂布方法中，在上述喷嘴的扫描之前，从光束射出部射出定向性高的光束，以便在第2的高度位置大致水平地横穿支承在上述第1的高度位置的上述衬底上面附近，以隔着上述衬底配置在与上述光束射出部对置位置的受光部接收上述光束并转换为电信号，基于从上述受光部输出的上述电信号，关于要在上述衬底上方进行上述扫描的上述喷嘴，判定在上述第2的高度位置的实质上障碍物的有无，按照上述判定结果，选择执行、中止或中断上述喷嘴相对于上述衬底的扫描。
而且，本发明的涂布装置，具有在第1的高度位置大致水平地支承被处理衬底的支承部；用于在由上述支承部支承的上述衬底上面从上方接近的位置喷出涂布液的喷嘴；用于在上述衬底上方，进行上述喷嘴对上述衬底相对地向水平方向移动扫描的扫描部；射出定向性高的射出光束，使得在第2高度位置大致水平地横穿由上述支承部支承的上述衬底上面附近的光束射出部；配置在隔着上述衬底与上述光束射出部对置的位置，接收上述光束并转换为电信号的受光部；基于从上述受光部输出的上述电信号，对在上述衬底上方要进行上述扫描的上述喷嘴，判定在上述第2的高度位置实际有无障碍物的判定部；以及根据上述判定部的判定结果，选择执行、中止或中断上述喷嘴对上述衬底的扫描的扫描控制部。
本发明中，在喷嘴扫描之前，以隔着被处理衬底相对置的光束射出部和受光部，接受要大致水平横穿衬底上面附近的光束，基于从受光部输出的电信号，判定部判定光束的传播路线上实际有无障碍物，当障碍物没有的判定结果出来时就执行喷嘴的扫描，当障碍物存在的判定结果出来时，就中止或中断喷嘴的扫描。因此，在衬底上方附近，于喷嘴扫描方向的前方存在障碍物时，能够在喷嘴行进到达之前检测该障碍物，停止喷嘴扫描，避免喷嘴与該障碍物接触。
根据本发明的一方案，为了从衬底的一端到另一端不遗漏地用上述光束进行障碍物检查，沿喷嘴扫描方向在喷嘴前方侧位置支承光束射出部和受光部，和喷嘴一起相对于衬底相对移动。这种情况下，由判定部得出扫描中喷嘴的前方有实际障碍物的判定结果的时候，可以立刻用扫描部中断喷嘴水平方向移动。或者，具备用于使喷嘴升降移动的升降机构，判定部得出了在扫描中于喷嘴前方有实际障碍物的判定结果的时候，也可以立刻借助于該升降机构将喷嘴上升移动到规定高度位置。通过该上升移动，即使喷嘴照样继续进行水平方向的移动，也能避开該障得物而在其上方移动，能够避免冲撞或摩擦接触。
一般，如上述那样的喷嘴扫描中的衬底上面附近障碍物是附着于衬底上面的异物，衬底上隆起部分的情况很多，衬底的隆起在衬底和载置台(支承部)之间夹着异物时容易发生。所以，进行为了在涂布处理之前从衬底的上面和下面或载置台上面除去异物的清洗是最好的。
按照本发明涂布装置的一方案，为了吸引除去附着于衬底上面的异物，设置向涂布涂布液之前的衬底上面施加真空吸引力的第1清洗部。而且，为了吸引除去衬底的下面附着的异物，设置向涂布涂布液之前的衬底下面施加真空吸引力的第2清洗部。而且，为了吸引除去附着于载置台的异物，设置对载置衬底之前的载置台施加真空吸引力的第3清洗部。在第1或第2的清洗部中，通过配置在设于涂布处理部前段的滚柱运送路径的上下，在衬底用滚柱运送通过清洗部的旁边的时候从衬底的一端到另一端无遗漏地用真空吸引施行清洗。在各清洗部中，为了不使周围空气卷入，优选地在真空吸引力的起作用地点周围设置供给洁净气体的气体供给装置。
按照本发明涂布装置的一方案，支承部具有衬底漂浮机构，该机构有多个气体喷出孔，向衬底下面施加从这些气体喷出孔向上方喷出的气体的压力，在第1的高度位置使衬底大致水平地浮起。倘若采用这样的衬底漂浮机构，衬底在空中漂浮的状态下进行涂布处理，因而能够避免因衬底下异物引起的喷嘴与衬底的接触。而且，即使衬底的上面附着异物，经过该异物喷嘴和衬底接触，由于从喷嘴侧来的挤压力也能使上浮状态的衬底向下方位移，所以因接触造成双方的损坏相当轻微。
按照本发明涂布装置的一方案，设置对涂布液涂布后的衬底上面进行摄像的摄像部、和根据由该摄像部得到的图像信号用图像识别判断在衬底上的涂布膜实际斑点(不匀)是否存在的判定部。一般，在涂布膜上发生斑点时，由于大部分是喷嘴的孔眼堵塞成为原因的情况，通过检查在涂布处理后涂布膜上是否存在斑点，可在检查膜质的同时检查喷嘴的涂布液喷出功能。所以，优选地，合并设置用于对喷嘴施行处理以便喷嘴的涂布液喷出机能恢复正常状态的喷嘴复原部、和在判定部作出在衬底上面实际存在斑点的判定结果时使喷嘴复原部进行恢复处理的复原控制部。
按照本发明的涂布方法或涂布装置，通过如上述那样的构成和作用，在接近被处理衬底上面或被处理面的高度位置，安全地执行扫描喷嘴的涂布动作，就能够保证衬底和喷嘴的安全性。
图1是表示本发明可应用的涂布显影处理系统构成的俯视图。
图2是表示实施方式的涂布显影处理系统的热处理部构成的侧视图。
图3是表示实施方式的涂布显影处理系统的处理顺序的流程图。
图4是表示实施方式的涂布显影处理系统的涂布加工部构成的上视图。
图5是表示实施方式的涂布加工部的各部控制系统构成的框图。
图6是表示一实施例的衬底上面清洁器和下面衬底清洁器的构成的局部剖视侧视图。
图7是表示一实施例的载物台机构和载物台清洁器构成的立体图。
图8是表示一实施例的涂布处理部和喷嘴障碍监视器构成的立体图。
图9是表示实施例的喷嘴障碍监视器作用的局部剖视侧视图。
图10是表示实施例的跨越障碍物动作(喷嘴避让动作)一例的剖视侧视图。
图11是表示实施例的跨越障碍物动作(喷嘴避让动作)一例的剖视侧视图。
图12是表示实施例的涂布膜检查部构成的框图。
图13是表示实施例的涂布膜检查部的摄像部构成的立体图。
图14是表示一实施例的喷嘴复原部构成的图。
图15是表示另外实施例的载物台机构构成的局部剖视侧视图。
具体实施例方式
以下，参照
本发明的最佳实施方式。
图1表示作为能应用本发明的涂布方法和涂布装置的一构成例的涂布显影处理系统。这个涂布显影处理系统10，设在无尘室内，例如以LCD衬底为被处理衬底，在LCD制造加工中进行光刻工序里的清洗、抗蚀剂涂布、预烘焙、显影和后烘焙等的一连串处理。曝光处理，用邻接这个处理系统设置的外部曝光装置12进行。
该涂布显影处理系统10，在中心部配置横宽的加工站(P/S)16，在其长度方向(X方向)两端部配置盒站(C/S)14和接口站(I/F)18。
盒站(C/S)14，是系统10的盒搬出入口，具备能够将可多层重叠地收容多个方型玻璃衬底G的盒C在水平方向例如Y方向排列到4个而载置的盒载物台20和相对于该载物台20上的盒C进行衬底G存取的运送机构22。运送机构22具有能保持衬底G的机构例如运送臂22a，可在X、Y、Z、θ的4轴上动作，可与邻接的加工站(P/S)16侧与进行衬底G的交接。
加工站(P/S)16，在沿系统长度方向(X方向)延伸的平行而且方向相反的一对流水线A、B上，以加工流程或工序顺序配置各处理部。更详细点说，在从盒站(C/S)14一侧朝向接口站(I/F)18的上游部的生产流水线A中，横向一列地配置有清洗加工部24、第1热处理部26、涂布加工部28、及第2热处理部30。另一方面，从接口站(I/F)18一侧朝向盒站(C/S)14的下游部的生产流水线B中，横向一列地配置有第2热处理部30、显影加工部32、脱色加工部34、及第3热处理部36。在这种流水线方案中，第2热处理部30位于上游侧的生产流水线A的最末尾，并且位于下游侧的生产流水线B的前头位置，跨在两流水线A、B间。
在两生产流水线A、B之间设置辅助运送空间38，能够以1张为单位来水平载置衬底G的传送器40用图未示出的驱动机构，可在流水线方向(X方向)上双向移动。
在上游部的生产流水线A中，清洗加工部24包括擦洗单元(SCR)42，在和该擦洗单元(SCR)42内的盒站(C/S)10邻接的地点配置受激准分子UV照射单元(e-UV)41。擦洗单元(SCR)42内的清洗部，一边通过滚柱运送或传送带运送以水平姿态向流水线A方向运送衬底G，一边对衬底G的上面(被处理面)施加冲洗清洗或吹风清洗。
与清洗加工部24的下游侧邻接的第1热处理部26，沿着生产流水线A在中心部设置纵型运送机构46，其前后两侧设置着，将多个单片式烤炉单元与衬底交接用的传递单元一起进行多层层叠配置而成的，多层单元部或烤炉塔(TB)44、48。
例如，如图2所示，在上游侧的烤炉塔(TB)44中，从下面起依次层叠有衬底搬入用的传递单元(PASSL)50，脱水烘焙用的加热单元(DHP)52、54和粘附单元(AD)56。在这里，传递单元(PASSL)50提供用于把从擦洗单元(SCR)42清洗处理完了的衬底G搬进第1热处理部26内的空间。在下游侧的烤炉塔(TB)48中，从下面起依次层叠有衬底搬出用的传递单元(PASSR)60，衬底温度调整用的冷却单元(COL)62、64和粘附单元(AD)66。在这里，传递单元(PASSR)60提供用于把在第1热处理部26完成了所需热处理的衬底G搬往下游侧的涂布加工部28的空间。
在图2中，运送机构46具有沿着在垂直方向上延伸的导轨68可升降移动的升降运送体70、在该升降运送体70上可向θ方向转动或旋转的旋转运送体72、在旋转运送体72上支承衬底G并可在前后方向进退或伸缩的运送臂或镊子74。用于驱动升降运送体70升降的驱动部76设于垂直导轨68的基部侧，用于驱动旋转运送体72旋转的驱动部78安装在升降运送体70上，用于驱动运送臂74进退的驱动部80安装在旋转运送体72上。各驱动部76、78、80，例如可以由电动机等构成。
如上述那样构成的运送机构46快速升降或旋转运动，能够访问两相邻的烤炉塔(TB)44、48之中任意的单元，也能够与辅助运送空间38侧的传送器40交接衬底G。
邻接于第1热处理部26的下游侧的涂布加工部28，如图1所示，沿着生产流水线A一列地配置着搬入单元(IN)81，抗蚀剂涂布单元(CT)82，减压干燥单元(VD)84，边缘清除器(エツジリム一バ)单元(ER)86和搬出单元(OUT)87。涂布加工部28内的构成以后详细说明。
邻接涂布加工部28的下游侧的第2热处理部30具有和上述第1热处理部26一样的构成，在两生产流水线线A，B之间设置纵型的运送机构90，在生产流水线A侧(最末尾)设置一个烤炉塔(TB)88，在生产流水线B侧(前头)设置另一个烤炉塔(TB)92。
虽然图示省略，然而例如，在生产流水线A侧的烤炉塔(TB))88中，在最下层配置衬底搬入用的传递单元(PASSL)，而且，可以在其上重叠例如3层预烘焙用的加热单元(PREBAKE)。而且在生产流水线B侧的烤炉塔(TB)92中，可以在最下层配置衬底搬出用的传递单元(PASSR)，在其上重叠例如1层衬底温度调整用的冷却单元(COL)，再于其上重叠例如2层预烘焙用的加热单元(PREBAKE)。
第2热处理部30中的运送机构90，通过两烤炉塔(TB)88、92各自的传递单元(PASSL)、(PASSR)不仅能以1片为单位与涂布加工部28和显影加工部32交接衬底G，而且也能与辅助运送38内的传送器40及后述的接口站(I/F)18以1片为单位交接衬底G。
在下游部的生产流水线B中，显影加工部32，包括一边水平姿状运送衬底G一边进行一连串的显影处理工序的所谓平流(平流し)方式的显影单元(DEV)94。
在显影加工部32的下游侧夹着脱色加工部34配置第3热处理部36。脱色加工部34具备用于对衬底G的被处理面照射i射线(波长365nm)进行脱色处理的i射线UV照射单元(i-UV)96。
第3热处理部36具有与上述第1热处理部26及第2热处理部30一样的构成，沿着生产流水线B设有纵型运送机构100和其前后两侧的一对烤炉塔(TB)98、102。
虽然图示省略，然而例如，在上游侧的烤炉塔(TB)98中，在最下层安置衬底搬入用的传递单元(PASSL)，而且在其上可以重叠例如3层后烘焙用的加热单元(POBAKE)。而且，在下游侧的烤炉塔(TB)102中，可以在最下层安置后烘焙用的加热单元(POBAKE)，在其上重叠1层衬底搬出和冷却用的传递·清洗单元(PASSR·COL)，再于其上重叠2层后烘焙用的加热单元(POBAKE)。
第3热处理部36中的运送机构100，通过两个多级单元部(TB)98、102的传递单元(PASSL)和传递·清洗单元(PASSR·COL)不仅能以1片为单位分别与i射线UV照射单元(i-UV)96和盒站(C/S)14交接衬底G，而且也能以1片为单位与辅助运送空间38内的传送器40交接衬底G。
接口站(I/F)18具有用于和邻接的曝光装置12进行衬底G的交换的运送装置104，其周围配置缓冲台(BUF)106，扩展·冷却台(EXT·COL)108和外围装置110。缓冲台(BUF)106上放置固定式的缓冲盒(图未示出)。扩展·冷却台(EXT·COL)108是具备冷却功能的衬底交接用台，在和加工站(P/S)16侧交换衬底G时使用。外围装置110可以是例如上下层叠字幕器(TITLER)和四周曝光装置(EE)的结构。运送装置104具有能保持衬底G的机构，例如运送臂104a，可与邻接的曝光装置12和各单元(BUF)06、(EXT·COL)108、(TITLER/EE)110交接衬底G。
图3中，表示该涂布显影处理系统的处理顺序。首先，在盒站(C/S)14中，运送机构22从台20上的任一个盒C中取出1个衬底G，搬入到加工站(P/S)16的清洗加工部24的受激准分子UV照射单元(e-UV)41(步骤S1)。
在受激准分子UV照射单元(e-UV)41内对衬底G施加用紫外线照射的干式清洗(步骤S2)。在该紫外线清洗中主要是除去衬底表面的有机物。紫外线清洗结束后，将衬底G用盒站(C/S)14的运送机构22移送到清洗加工部24的擦洗单元(SCR)42。
在擦洗单元(SCR)42中，如上述那样采用通过滚柱运送或传送带运送，以水平姿态沿生产流水线A方向，一边平流运送衬底G一边对衬底G的上面(被处理面)施加冲洗清洗和吹风清洗，从衬底表面除去颗粒状的污渍(步骤S3)。然后，清洗后也一边以平流运送衬底G一边施加漂洗处理，最后用气刀等使衬底G干燥。
在擦洗单元(SCR)42内清洗处理完了的衬底G，平流地搬入到第1热处理部26的上游侧烤炉塔(TB)44内的传递单元(PASSL)50。
在第1热处理部26内，衬底G借助于运送机构46以规定次序而依次移送到规定的烤炉单元。例如，衬底G最初从传递单元(PASSL)50移送到加热单元(DHP)52、54的一个，在此接受脱水处理(步骤S4)。其次，将衬底G移送到冷却单元(COL)62、64的一个，在此冷却到一定衬底温度(步骤S5)。然后，衬底G移送到粘附单元(AD)56，在此接受疏水化处理(步骤S6)。该疏水化处理结束后，衬底G在冷却单元(COL)62、64的一个中冷却到一定衬底温度(步骤S7)。最后，将衬底G移送到下游侧烤炉塔(TB)48内的传递单元(PASSR)60。
这样，在第1热处理部26内，衬底G就能够通过运送机构46在上游侧的多层烤炉塔(TB)44和下游侧的烤炉塔(TB)48之间随意地往来。还有，第2和第3热处理部30、36也同样进行衬底运送运作。
在第1热处理部26受到上述这样的一连串热的或热系列处理后的衬底G，从下游侧烤炉塔(TB)48内的传递单元(PASSR)60移送到下游侧相邻的涂布加工部28的搬入单元(IN)81，从搬入单元(1IN)81移送到抗蚀剂涂布单元(CT)82。
在抗蚀剂涂布单元(CT)82中，后述那样，衬底G通过用狭缝型抗蚀剂喷嘴的旋涂法给衬底上面(被处理面)涂布抗蚀剂液。随后，衬底G在下游侧相邻的减压干燥单元(VD)84接受了利用减压法的干燥处理，进而在下游侧相邻的边缘清除器单元(ER)86去除衬底边缘部的多余(不需要)的抗蚀剂(步骤S8)。
接受如上述那样的抗蚀剂涂布处理后的衬底G，从边缘清除器单元(ER)86搬入到相邻的第2热处理部30上游侧烤炉塔(TB)88内的传递单元(PASSL)。
在第2热处理部30内，衬底G借助于运送机构90以规定的次序依次移送到规定的单元。例如，将衬底G最初从传递单元(PASSL)转移到1个加热单元(PREBAKE)，因此受到预烘焙的加热处理(步骤S9)。接着，将衬底G移送到一个冷却单元(COL)，因此冷却到一定的衬底温度(步骤S10)。而后，衬底G经由或不经由下游侧烤炉塔(TB)92侧的传递单元(PASSR)，而交给接口站(I/F)18侧的扩展冷却台(EXT·COL)108。
在接口站(I/F)18中，衬底G从扩展冷却台(EXT·COL)108搬入到外围装置110的四周曝光装置(EE)，因此受到显影时除去附着于衬底G的周围部的抗蚀剂用的曝光以后，送往相邻的曝光装置12(步骤S11)。
在曝光装置12中，对衬底G上的抗蚀剂以规定的电路图案曝光。然后，结束图案曝光后的衬底G，从曝光装置12返回接口站(I/F)18时(步骤S11)，首先搬进外围装置110的字幕器(TITLER)，因此给衬底上规定部位标记规定的信息(步骤S12)。而后，衬底G返回扩展清洗台(EXT·COL)108。用运送装置104进行接口站(I/F)18中的衬底G的运送和与曝光装置12的衬底G的交换。
在加工站(P/S)16中，在第2热处理部30中运送机构90由扩展清洗台(EXT·COL)108接收曝光完了的衬底G，经过生产流水线B侧烤炉塔(TB)92内的传递单元(PASSR)送交显影加工部32。
在显影加工部32中，把从该烤炉塔(TB)92内的传递单元(PASSR)收到的衬底G搬入到显影单元(DEV)94。在显影单元(DEV)94中，衬底G向生产流水线B的下游以平流方式运送，在该运送中进行显影、漂洗，干燥一连串的显影处理工序(步骤S13)。
在显影加工部32中受到了显影处理的衬底G是以平流方式搬入到下游侧相邻的脱色加工部34，因此受到i射线照射的脱色处理(步骤S14)。脱色处理完了的衬底G搬入到第3热处理部36的上游侧烤炉塔(TB)98内的传递单元(PASSL)。
在第3热处理部36中，衬底G最初从該传递单元(PASSL)移送到一个加热单元(POBAKE)，因此受到预烘焙的加热处理(步骤S15)。然后，衬底G移送到下游侧烤炉塔(TB)109内的传递冷却单元(PASSR·COL)，因此冷却到规定的衬底温度(步骤S16)。第3热处理部36的衬底G的运送由运送机构100来进行。
在盒式站(C/S)14侧，运送机构22，从第3热处理部36的传递冷却单元(PASSR·COL)收到结束了涂布显影处理的全体工序的衬底G，把收到的衬底G装入台20上的任一个盒C里(步骤S1)。
在该涂布显影处理系统10中，可以将本发明应用于涂布加工部28，尤其是抗蚀剂涂布单元(CT)82。以下，参照图4～图13，说明把本发明应用于涂布加工部28的一实施方式。
如图4所示，涂布加工部28是，在支承台112上沿X方向(沿生产流水线A)一列配置搬入单元(IN)81、抗蚀剂涂布单元(CT)82、减压干燥单元(VD)84、边缘清除器单元(ER)86和搬出单元(OUT)87。沿X方向延伸的一对导轨114、114平行地铺设在支承台112的两端部，用被两导轨114、114导引而移动的一组或多组的运送臂116、116，就能在单元间交换衬底G。
在搬入单元(IN)81，设置在X方向以一定间隔铺设能大致水平载置衬底G的滚柱118而构成平流方式的滚柱运送路线120。该滚柱运送路线120，从相邻烤炉塔(TB)48内的传递单元(PASSR)60引入，由例如有驱动电动机和传动机构的运送驱动部122驱动。在滚柱运送路线120的下方，设置可升降的多条升降杆124，用于以水平姿态拿起从传递单元(PASSR)60运送来的衬底G传递给运送臂116、116。而且，在滚柱运送路线120上方设置衬底上面清洁器126，用于清洁衬底G的上面，并且在滚柱运送路线120的下方和升降杆124不干涉的位置设置衬底下面清洁器128，用于清洁衬底G的下面(图6)。两个清洁器126、128的详细的结构和作用，参照图6以后说明。还有，在传递单元(PASSR)60内，设置可升降的升降杆130，用于把第1热处理部26中完成了所需热处理的衬底G从运送机构46(图2)接受并移至滚柱运送路线120上。
抗蚀剂涂布单元(CT)82具有用于水平载置并保持衬底G的台132；在该台132上载置的衬底G上面(被处理面)，采用狭缝型抗蚀剂喷嘴134以旋涂法涂布抗蚀剂液的涂布处理部136；用于清洁台132上面的台清洁器138；用于对衬底G上所形成的抗蚀剂液的涂布膜检查是否存在斑点的涂布膜检查部140；用于将抗蚀剂喷嘴134的抗蚀剂液喷出功能维持在正常状态或复原的喷嘴复原部142等。抗蚀剂涂布单元(CT)82内各部分的构成和作用，参照图6～图13以后详述。
减压干燥单元(VD)84具有上面开口的托盘或浅底容器型的下部小室144和与该下部小室144上面气密紧贴或可嵌合地构成的盖状的上部小室(图未示出)。下部小室144大致四边形，在中心配置用于水平载置支承衬底G的台146，在底面四角设置排气口148。各排气口148通过排气管(图未示出)通向真空泵(图未示出)。在下部小室144上盖上了上部小室的情况下，就能用該真空泵，将两室内密闭的处理空间减压到规定的真空度。
边缘清除器单元(ER)86设置着水平地载置并支承衬底G的台150、用于在相对置的一对角部对衬底G进行定位的对准机构152、及从衬底G四周边缘部(边缘)除去多余抗蚀剂的4个清除器头(リム一バ一ヘツド)154等。在对准机构152定位了台150上的衬底G的状态下，各清除器头154一边沿着衬底G的各边移动，一边以稀释剂溶解除去衬底各边的边缘部上附着的多余抗蚀剂。
搬出单元(OUT)87具有与上述搬入单元(IN)81同样的滚柱运送路线和升降机杆(图未示出)。用边缘清除器单元(ER)86结束了抗蚀剂除去处理的衬底G，由运送臂116、116送到运送搬出单元(OUT)87，升降杆从运送臂116、116接收衬底G后移置到滚柱运送路线上。而后，就以平流的滚柱运送方式把衬底G运送到后述的相邻烤炉塔(TB)88内的传递单元(PASSL)。
图5中，表示抗蚀剂涂布单元(CT)82内及其四周主要各部控制系统的构成。控制部160由包括CPU和存储器等的微机构成，依照规定的软件或程序控制各部分。在该控制部160上，用控制系统的接口连接着上述衬底上面清洁器126、衬底下面清洁器128、涂布处理部136、台清洁器138、涂布膜检查部140和喷嘴复原部142，并且用控制系统的接口连接着台机构166和喷嘴障碍监视器168等。而且，控制部160也和操作面板的键盘或显示装置(图未示出)或者外部主机或控制器(图未示出)等连接起来。
图6中，表示一实施例的衬底上面清洁器126和衬底下面清洁器128的构成。衬底上面清洁器126具有以能从一端到另一端覆盖滚柱运送路线120上的衬底G的长度沿Y方向(与运送方向垂直的水平方向)延伸的长条状清洁器本体170，该清洁器本体170的下面设置沿长度方向(Y方向)延伸的狭缝状吸引口172和从该吸引口172的两侧喷出气体(例如洁净空气)的气体喷出口174。在清洁器本体170的上面和侧面分别连接吸气管176和气体供给管178。在清洁器本体170内侧，在中心部设置连接吸引口172和吸气管176的通气管路或吸气管路180，并且在該吸气管路180的两侧设置连接气体供给管178和气体喷出口174的通气管路或供气管路182。在供气管路182的中途设置多孔板184，用于使气体喷出口174的喷出压力均匀。在吸气管路180中也可以设置多孔板(图未示出)，用于使吸引口172的吸引力均匀。吸气管176经由吸尘过滤器(图未示出)通到真空装置例如，真空泵或抽出器(图未示出)中，气体供给管178连接气体源例如压缩机(图未示出)。
在第1热处理部26完成所需热处理的衬底G从烤炉塔(TB)48内的传递单元(PASSR)60搬入到抗蚀剂涂布单元(CT)82的搬入单元(IN)81时，衬底G在滚柱运送路线120上例如以几mm以下的接近距离通过衬底上面清洁器126的正下方。这时，如果衬底G的上面附着颗粒，垃圾，碎片等异物P的话，这些异物P就借助于由清洁器本体170的吸引口172给予衬底上面的真空吸引力吸入到吸引口172之中，通过吸气管路180和吸气管176被吸尘过滤器俘获。在吸引口172的周围从气体喷出口174喷出的气体被衬底上面挡住而吸入吸引口172，所以形成气幕。因此，没有卷进周围空气而引入大气中垃圾的担心。这样，衬底G在滚柱运送路线120上平流搬进搬入单元(IN)81时，借助于衬底上面清洁器126的真空吸引式清洗从衬底G上面大体上除去异物P。
衬底下面清洁器128具有和衬底上面清洁器126相同的结构，如图6所示，以相反方向(朝上)配置在运送路线120下方。所以，衬底G在搬进运送路线120上平流搬进搬入单元(IN)81时，衬底下面清洁器128对衬底G下面施加和衬底上面清洁器126同样的真空吸引式清洗，从衬底G下面大体上除去异物P。还有，构成运滚柱送路线120的各滚柱118是在轴118a的两端部固定一对运送滚柱118b，衬底G是被载置在这些左右一对运送滚柱118上运送的。所以，衬底G下面和轴118a之间有一定间隙，附着于衬底G下面的异物P尽管穿越該间隙，也被衬底下面清洁器128俘获。而且，如本实施例那样，在将衬底上面清洁器126和衬底下面清洁器128上下对置配置的结构中，抵消由两清洁器各自给予衬底G的压力，就能够稳定地维持衬底G的水平姿态。
图7中，表示一实施例的台132和台清洁器138的结构。台132，作为对应于衬底G的形状和尺寸的长方体载置台而构成。在台132上面，分别以适当的配置图案设置多个收容可在垂直方向上出没的升降杆(图未示出)的孔190和多个用于固定台上的衬底G的真空吸附口192。
在台132上装载衬底G时，升降杆从各孔190向垂直上方突出，以规定的高度位置从运送臂116、116(图4)接收衬底G，随后下降到支杆顶端进入孔190之中的高度位置，把衬底G移置或载置到台132上。各真空吸附口192连到真空泵等真空源(图未示出)上，在一定高度位置用真空吸附力保持载置在台132上的衬底G。衬底G从台132卸下时，就解除了真空吸附力，升降杆从各孔190向垂直上方突出，将衬底G拿起到规定的高度位置后传递给运送臂116、116。利用这样的升降杆的装/卸机构和用真空吸附口192的衬底保持机构，作为台机构166(图5)的一部份，在控制部160的控制下动作。
在图7中，台清洁器138具有以从一端到另一端可覆盖台132的长度沿Y方向延伸的长条状的清洁器本体194、和在台132上方沿X方向使该清洁器本体194水平移动即扫描的扫描部196。清洁器本体194，可以例如和上述衬底上面清洁器126相同的构造，通过吸气管198连到真空源(图未示出)上，并且经过气体供给管200连到气体供给源(图未示出)上，并具有和台132对置的狭缝状吸气口和气体喷出口。扫描部196具有水平支承清洁器本体194的倒コ字状的支承体202、和使该支承体202在X方向双向直线移动的扫描驱动部204。该扫描驱动部204，可以例如由带导向件的滚珠丝杠机构或线性电动机机构构成。在连接支承体202和清洁器本体194的接合部，优选地设置带导向件的升降机构206以便变更或调整清洁器本体194的高度位置。
台清洁器138在台132上没有载置衬底G的空闲期间在控制部160的控制下动作。更详细点说，一边用扫描部196以一定速度扫描清洁器本体194使其在X方向纵贯台132的上方，一边通过用清洁器本体194对台132上面各部分给予真空吸引力，从一端清洁到另一端地清洗台132的上面。因此，台132上附着或残留的异物被清洁器本体194俘获而除去。
图8中，表示一实施例的涂布处理部136和喷嘴障碍监视器168的结构。涂布处理部136具有包括抗蚀剂喷嘴134的抗蚀剂液供给部210；在台132上方沿X方向使抗蚀剂喷嘴134水平移动即扫描的扫描部212；用于变更或调节抗蚀剂喷嘴134高度位置的喷嘴升降机构220。
在抗蚀剂液供给部210中，抗蚀剂喷嘴134具有以能够从一端到另一端覆盖台132上的衬底G的长度在Y方向延伸的狭缝状喷出口134a，并连接到来自于抗蚀剂液供给源(图未示出)的抗蚀剂液供给管214上。扫描部212具有水平支承抗蚀剂喷嘴134的倒コ字状的支承体216、和在X方向上使支承体216双方向直线移动的扫描驱动部218。该扫描驱动部218也能使用滚珠丝杠机构，然而从涂布膜的均匀性观点看，优选地由机械振动小的线性电动机机构构成。喷嘴升降机构220可由滚珠丝杠机构构成，调节抗蚀剂喷嘴134的高度位置之后不仅能任意地设定或调整喷嘴下端部的喷出口134a与台132上的衬底G上面(被处理面)之间的距离间隔即间隙g(图9)的大小，而且也能使抗蚀剂喷嘴134瞬间上升移动。
涂布处理部136在台132上载置衬底G期间在控制部160的控制下动作。更详细点说，用扫描部212以一定速度一边扫描抗蚀剂喷嘴134使其在X方向纵贯台132的上方，一边在抗蚀剂液供给部210中从抗蚀剂喷嘴134的狭缝状喷出口134a对台132上的衬底G上面以Y方向延伸的线状喷出流供给抗蚀剂液。此时，使从喷出口溢出到衬底G上的抗蚀剂液在于X方向以规定方向前进或水平移动的抗蚀剂喷嘴134的下端部平坦地延伸，然后在衬底G上以对应间隙g的一定的膜厚，形成抗蚀剂液的涂布膜CR(图9)。
喷嘴障碍监视器168，在当涂布处理部136中进行如上述那样的抗蚀剂涂布处理时，检查抗蚀剂喷嘴134的前方是否有障碍。如上述那样，衬底G以平流的滚柱运送方式搬入到搬入单元(IN)81时，用衬底上面清洁器126和衬底下面清洁器128分别以真空吸引法清洗衬底G的上面和下面，进而台132的上面也用台清洁器138定期地以真空吸引法进行清洗，因而，在台132上载置的衬底G上面附着有异物的情况、和衬底G与台132之间夹着异物的情况的发生频率与现有装置比较，是非常之低。但是，从搬入单元(IN)81移送到台132的期间衬底G的上面或下面有附着异物的可能性，有台132上附着新异物的可能性。而且，即使用清洁器126、128、138也有不能完全除去异物的可能性。在本实施方式中，作为危害的对策而设置喷嘴障碍监视器168，在台132上载置的衬底G上面或下面实质上附着或夹带(有涂布处理上故障)异物的情况下，根据如以下叙述的喷嘴障碍监视器168的作用，就会防止抗蚀剂喷嘴134与衬底G的对接或滑接于未然。
在图8中，喷嘴障碍监视器168具有射出定向性高的光束例如激光束LB，以使在规定的高度位置沿Y方向大致水平横穿台132上载置的衬底G上面附近的激光射出部222；隔着台132上的衬底G并在Y方向上配置在和激光射出部222对置的位置上的受光部224。如图所示，激光射出部222和受光部224分别安装在从支承体216的左右两侧面向扫描方向前方突出的一对水平支承臂226、226上，在扫描方向上距抗蚀剂喷嘴134仅一定距离(例如100mm～200mm)的前方位置收发激光束LB。受光部224如果收到从激光射出部222来的激光束LB，就输出与其收到的激光束LB光量或光强度相应的电平电压信号。喷嘴障碍监视器168有信号处理电路，输入从受光部224来的电压信号，比较该电压信号电平和规定的基准值，进行监视判定。在这里，基准值可以是，从激光射出部222射出的激光束LB不碰上任何障碍地在空中传播而到达受光部224时，从受光部224输出的电压信号电平。
在涂布处理部136中执行抗蚀剂涂布处理时，通过扫描部212的扫描驱动，喷嘴障碍监视器168的障碍物检测用激光束LB也与抗蚀剂喷嘴134一起，而且在其前方沿X方向扫描衬底G的上方。在该激光束LB的扫描中，衬底G的上面保持在设定的高度位置，而且在此什么异物都没有附着的扫描部位，如图9(A)所示，从激光射出部222来的激光束LB什么障碍也没有碰上地在衬底上面的附近传播而到达受光部224，由受光部224得到和基准值近似的电平电压信号。所以，喷嘴障碍监视器168的信号处理电路输出该扫描位置是“正常”的，也就是对抗蚀剂喷嘴134的障碍物没有的监视器判定结果。这样，只要由喷嘴障碍监视器168得出“正常”的监视器判定结果，控制部160就使涂布处理部136继续进行或继续抗蚀剂涂布处理。
但是，例如图9(B)所示，衬底G与台132之间夹着异物P并在其附近衬底G隆起的情况下，扫描过程中如果激光束LB到达衬底G隆起的地方，激光束LB部分地被与激光射出部222对置侧的衬底G的侧面遮住，对该激光束遮光的程度随着衬底G的隆起程度而逐渐增大。如此一来，在受光部224中，激光束LB的受光量逐渐减少，输出信号电平就逐渐下降。在喷嘴障碍监视器168的信号处理电路中，在从受光部224来的电压信号电平相对于基准值比规定的比率(例如50％)还低的时刻，输出是“异常”，即在該扫描位置存在相对于抗蚀剂喷嘴134的某些障碍物的监视器判定结果。
或者，如图9(C)所示，即使在衬底G上面某处附着相当尺寸的异物P的情况下，由于扫描过程中激光束LB也被被該异物P遮住，该时刻从喷嘴障碍监视器168的信号处理电路输出与上述同样的“异常”的监视器判定结果。
还有，如图9所示，激光束LB的高度位置和尺寸(光束直径d)，可以按照抗蚀剂喷嘴134的下端即喷出口134a与台132上正常载置的衬底G的上面之间所形成的间隙g的高度位置和尺寸(距离间隔)来设定，最好是使双方(LB、g)的高度位置和尺寸一致或使之近似。例如，在设定间隙g为100μm的情况，设定激光束LB的光束直径d为100μm，可以使激光束LB的中心高度位置和间隙g的中心高度位置一致。
如上述那样，从喷嘴障碍监视器168输出“异常”的监视器判定结果的话，控制部160就指示涂布处理部136中断抗蚀剂涂布处理。
此时，作为第1涂布处理中断方法，控制部160也指示涂布处理部136中断扫描。如此一来，涂布处理部136，在抗蚀剂液供给部210中停止从抗蚀剂液供给源向抗蚀剂喷嘴134供给抗蚀剂液，中断喷嘴134的抗蚀剂液喷出动作，并且在扫描部212中停止扫描驱动部218的前进驱动运转，中断抗蚀剂喷嘴134的扫描，随后使扫描驱动部218进行后退驱动，使抗蚀剂喷嘴134从台132的上方往原来位置后退或避让。
或者，作为第2涂布处理中断方法，控制部160指示涂布处理部136向抗蚀剂喷嘴134上方退避移动。如此一来，涂布处理部136，瞬间在喷嘴升降机构220中使抗蚀剂喷嘴134上升移动。这时，在抗蚀剂液供给部210中，中断抗蚀剂液喷出动作当然是令人满意的。而且，在扫描驱动部218中，也可以停止前进驱动运转，然而即使没停止也无妨。尽管没停止前进驱动运转，由于抗蚀剂喷嘴134瞬间上升移动，如图10和图11所示不难避开障碍物(异物P或因其引起的衬底隆起部份)而移动到上方(飞越)。如上述那样喷嘴喷出口和衬底上面之间的间隙g是100μm左右，障碍物的高度通常也是数百μm左右以下。喷嘴障碍监视器168在抗蚀剂喷嘴134前方发现障碍物之后直到抗蚀剂喷嘴134到达該障碍物位置的水平移动距离(例如100mm～200mm)之间，抗蚀剂喷嘴134只要上升数mm就能十分充裕地实现向上方的退避。
该第2涂布处理中断方法对扫描驱动部218使用线性电动机的情况尤其有利。即，线性电动机，机械振动小，另一方面由于没有减速机构，有进行紧急煞车到停止之际直到完全停止的移动距离长的这一方面。但是，如该第2方法那样，如是使抗蚀剂喷嘴134仅上升数mm的紧急动作，则从升降机构的驱动部(电动机)角度看的负载惯性力矩低，抗蚀剂喷嘴134能迅速向上方退避，能移动到障碍物的上方。
如上述那样在涂布处理部136中断了抗蚀剂涂布处理的情况，在把该衬底G认定为缺陷品的基础上，也可以流向后续的处理工序，或者也可以在系统内的适当地点设置的缓冲室或保管室内暂时保管。而且，这时也可以使台清洁器138临时开动并清洗清洗台132的上面。
这样，在本实施方式中，在抗蚀剂涂布处理中，在抗蚀剂喷嘴134的扫描方向前方存在障碍物时，典型地如上述那样在衬底G和台132之间夹着异物P并在其附近衬底G隆起的情况、或在衬底G的上面附着异物P的情况下，喷嘴障碍监视器168事前发现那样的障碍物(衬底隆起部分、异物等)，在此时刻中断喷嘴扫描，因而就能够防止抗蚀剂喷嘴134接触或滑动接触衬底G隆起部分，或者经过异物摩擦衬底G的上面之类情况于未然。
而且，在本实施方式的喷嘴障碍监视器168中，由于使在衬底G的上方附近向一方向(Y方向)传播或横穿的障碍物检测用激光束LB沿与传播方向垂直的方向(X方向)水平移动，所以能够无遗漏地扫描衬底上面的整个面，即使衬底G上的哪个地方有异常地方(障碍物)也能可靠地检测。而且，因为利用涂布处理部136的扫描部212，使障碍物检测用激光束LB和抗蚀剂喷嘴134一起扫描，所以也能谋求监视器机构的简化和低成本化。
图12和图13中表示一实施例的涂布膜检查部140的结构。该涂布膜检查部140具有对由如上述那样的涂布处理部136接受抗蚀剂涂布处理后的衬底G上面进行摄像的摄像部230；根据由该摄像部230得到的图像信号用图像识别技术判定衬底G上的涂布膜CR上是否存在斑点(不匀)的监视器处理部232。
摄像部230通过扫描驱动部234(图4)的扫描驱动，就能在台132(图4)的上方在X方向使灯236、聚光透镜238和CCD摄像机240扫描，如图13所示在Y方向延伸的剖状灯236照明台132上的衬底G的上面，CCD摄像机240就经过聚光透镜238对衬底上面被照射的部分进行摄像。
在图12中，监视器处理部232，用A/D变换器242把从CC摄像机240输出的模拟图像信号转换为数字图像信号，基于该数字图像信号，用图像识别部244、图像存储器246、监视器判定部248、设定部250和监视器输出部252等进行用于如后述这种涂布膜监视的图像处理或者判定处理。
图像识别部244，从A/D变换器242输入数字图像信号，用图像存储器246，合成由摄像部230拍摄的图像，组成1幅全体图像、就是衬底G上面大部分映射的图像。然后，通过例如二进制编码、除去噪声、贴标签、连接图形分析等公知的图像识别处理，若在摄影图像里面存在实质上的斑点，就图形识别该斑点。在这里，实质上没有降低抗蚀剂涂布膜质量这样的微小斑点可以从识别对象中除外。随后，对图形识别过的斑点，算出其形状、尺寸、位置等作为属性数据而数值化。一般，这种斑点因抗蚀剂喷嘴134侧的原因，即在抗蚀剂喷嘴134的狭缝状喷出口的某部位附着垃圾之类或抗蚀剂固化而在孔眼堵塞的情况发生，在与这些孔眼堵塞部位相对应的衬底上的位置，如图13所示呈现形成扫描方向线状延伸的条斑(条纹)M。
监视器判定部248作为从图像识别部244来的识别结果而接到了斑点属性数据时，和设定部250设定的监视值比较，如果存在形状、尺寸、个数、位置等方面超过监视值的斑点，就判断为該衬底G上的抗蚀剂涂布膜是“有斑点”。监视器判定部248的判定结果从监视器输出部252送到控制部160。
控制部160由涂布膜检查部140收到“有斑点”的判定结果时，也可以把该衬底G确定为缺陷品之后，流到后续的处理工序，或者也可以在系统内的适当地点设置的缓冲室或保管室内暂时保管。还有，这样的抗蚀剂涂布膜的不良(斑点)发生后的情况大多是因为如上述那样抗蚀剂喷嘴134的孔眼堵塞成为原因的情况，控制部160启动使抗蚀剂喷嘴134的抗蚀剂液喷出功能回复的喷嘴复原部142。
在图14，表示一实施例的喷嘴复原部142的结构。该喷嘴复原部142具有桶形处理室254，该桶形处理室可以设置在例如抗蚀剂喷嘴134的原来位置并在上面设置用于使抗蚀剂喷嘴134进出的开口。该处理室254中配置清洗喷嘴256，用于向在室内规定位置所收容的抗蚀剂喷嘴134的喷出口附近喷出清洗液(例如稀释剂)。该清洗喷嘴256，通过垂直支承构件258和水平支承构件260随着清洗喷嘴扫描机构262的扫描驱动而向喷嘴长度方向(Y方向)水平移动，在该方向把清洗液淋到抗蚀剂喷嘴134的整个喷出部(从一端到另一端)上清洗喷出口附近。使用完的清洗液从处理室254的底部设置的排液口255送往废液部(图未示出)。通过这样的喷嘴清洗，洗掉附着于抗蚀剂喷嘴134的喷出部的垃圾或固体抗蚀剂等。还有，清洗液供给管路也可以由来自于清洗液源(图未示出)的清洗液供给管264构成，例如由筒状体构成垂直支承构件258，其中通过清洗液供给管264连接到清洗喷嘴256。而且，也可以在清洗液供给管264的中途设置用于控制喷嘴清洗的接通和关闭的开闭阀266。清洗喷嘴扫描机构262，例如可由带导向件的滚珠丝杠机构构成。
还有，在该喷嘴复原部142中，也能进行向抗蚀剂喷嘴134喷出抗蚀剂液的模拟分配。这时，把设于抗蚀剂液供给管214的转换阀268切换到抗蚀剂液供给源侧并以一定时间打开(开)开闭阀270。借助于该模拟分配，能以某种程度机率除去抗蚀剂喷嘴134内部的孔眼堵塞。
本实施例中，为了更有效地或完全除去抗蚀剂喷嘴134内的孔眼堵塞，也可以以溶剂在喷嘴134内的抗蚀剂流通路中(例如稀释剂)置换并清洗喷嘴134内部。就是，通过把转换阀268切换到溶剂供给源侧之后使开闭阀270开通(开)一定时间，可经过抗蚀剂液供给管214把溶剂供给源来的溶剂导入到抗蚀剂喷嘴134，溶解成为孔眼堵塞原因的喷嘴134内的抗蚀剂固体部分之后由喷出口排出。
在图15中，表示可应用于上述实施例的抗蚀剂涂布单元(CT)82的台机构166的另一实施例。本实施例中，在用于载置衬底G的台132上设置使衬底G在一定高度位置上水平漂浮的衬底漂浮机构。更详细点说，台132的上面设置以一定密度混合多个气体喷出孔254和多个吸引孔256的配置图案。各气体喷出孔254，经由台132的内部形成的通气管路258和由台132外部吸引的气体管260通到高压气体供给源262上。另一方面，各吸引孔256，经由台139的内部形成的通气管路264和由台132外部吸引的气体管266通到真空源268上。高压气体供给源262和真空源268，在漂浮控制部270的控制下动作。
在该漂浮机构中，从台上面的各气体喷出孔254把高压气体向垂直上方喷出并把超过衬底G的重力的高压气体压力均匀地施加到衬底G的整个下面，使衬底G从台132上面水平地浮起。还有，为了使衬底G的浮起位置维持在仅离台上面一定间隙S的一定位置，与从气体喷出孔喷出的气体压力达成平衡地从台上面的各吸引孔256对衬底G作用向下的吸引力。利用检测间隙S的大小的间隙传感器(图未示出)或者检测衬底G的高度位置的高度检测传感器(图未示出)等也能进行反馈控制。还有，把衬底G载置到台132上时，停止高压气体供给源262和真空源268的运转。
根据本实施例，由于在使衬底G从台132漂浮起的状态下进行抗蚀剂涂布处理，因而即使衬底G的下面或台139的上面附着异物，也不会因该异物而使衬底G隆起，能避免因衬底下的异物所引起的抗蚀剂喷嘴134和衬底G的接触。而且，即使衬底G的上面附着异物，介以该异物使抗蚀剂喷嘴134和衬底G接触，由于以抗蚀剂喷嘴134侧来的压力而使浮起状态的衬底G移向下方，因而可使因接触造成的双方损伤较轻。
在上述实施方式中，在一个涂布加工部28中，综合或组合应用衬底上面清洁器126、衬底下面清洁器128、涂布处理部136、台清洁器138、涂布膜检查部140、喷嘴复原部142、台机构166、以及喷嘴障碍监视器168等各部的要素技术，能得到这些叠加的或相乘的作用效果。不过，把各部要素技术单独或个别地应用于涂布加工部28也能得到各自单独的作用效果。
在上述实施方式中，在滚柱运送路线120上方配置了衬底上面清洁器126，然而也能这样构成，即安装在涂布处理部136中的扫描部212的支承体216上并在抗蚀剂喷嘴134前方清洗衬底G的上面。或者，也可以将台清洁器138兼用作衬底上面清洁器126。
上述实施方式中可以这样构成，即将喷嘴障碍监视器168中的激光射出部222和受光部224安装在涂布处理部136的扫描部212的支承体216上，和抗蚀剂喷嘴134同时进行衬底上的扫描。但是，也可以与涂布处理部136独立地构成喷嘴障碍监视器168，在抗蚀剂涂布处理开始之前使喷嘴障碍监视器168动作，用单独的扫描部进行如上述那样的障碍物检测用激光束LB的扫描。这时，由喷嘴障碍监视器168得出“异常”的监视器判定结果时，只要在涂布处理部136中中止对该衬底G的抗蚀剂涂布处理即可。
上述实施方式中，其构成是，固定配置载置衬底G的台132，用扫描驱动部使对台132上的衬底G应进行所需相对移动或扫描的零件、例如抗蚀剂喷嘴134、喷嘴障碍监视器168的激光射出部222和受光部224，或者台清洁器138向规定方向移动。但是，也可以构成为，以相反的关系，固定配置这些扫描构件，用扫描驱动部使台132侧向规定方向移动。
上述实施方式中，在抗蚀剂涂布单元(CT)82中设置了涂布膜检查部140，然而也可以设置在后段例如减压干燥单元(VD)84中。减压干燥后的涂布膜检查，对带有斑点的不良涂布膜的减压干燥处理已变徒劳，然而涂布膜上的斑点因为干燥后比干燥前更清楚，所以有用图像识别容易检测的优点。
作为本发明的抗蚀剂喷嘴，在上述实施方式中使用具有狭缝状喷出口的狭缝型喷嘴，然而也能使用具有1个或多个细微直径喷出孔的细微直径型的喷嘴。
上述的实施方式是关于制造LCD的涂布显影处理系统中的抗蚀剂涂布装置，然而本发明也能应用在向被处理衬底上供给涂布液的任何应用。作为本发明的涂布液，除抗蚀剂液以外，例如层间绝缘材料，电介质材料，布线材料等液体也可以。本发明的被处理衬底不限于LCD衬底，其他平面显示用衬底、半导体晶片、CD衬底、玻璃衬底、光掩模，印制电路板等也可以。
权利要求
1.一种涂布方法，在第1高度位置大致水平地支承被处理衬底，使从上方接近的位置向所述衬底上面喷出涂布液的喷嘴相对于所述衬底进行相对水平方向移动的扫描，在所述衬底上面涂布所述涂布液，其特征是在所述喷嘴进行扫描之前，从激光束射出部射出定向性高的光束，以在第2高度位置大致水平地横穿支承在所述第1高度位置的所述衬底的上面附近；用隔着所述衬底配置在与所述光束射出部对置的位置上的受光部接收所述光束并转换为电信号；基于所述受光部输出的所述电信号，对要在所述衬底上方进行所述扫描的所述喷嘴判定在所述第2高度位置实质上有无障碍物；根据所述判定结果，选择所述喷嘴对所述衬底的扫描的执行、中止或中断。
2.按照权利要求1所述的涂布方法，其特征是，所述衬底在所述第1高度位置载置于水平的载置台上。
3.按照权利要求1所述的涂布方法，其特征是，从下方向所述衬底施加气体压力，在所述第1高度位置使所述衬底大致水平地浮起。
4按照权利要求1～3任一项所述的涂布方法，其特征是，所述光束射出部和所述受光部，在所述扫描方向上配置在所述喷嘴的前方侧，并与所述喷嘴一起相对于所述衬底相对移动。
5.按照权利要求4所述的涂布方法，其特征是，得出在所述扫描中于所述喷嘴的前方有实质上障碍物的判定结果时，立刻中断所述喷嘴水平方向的移动。
6.按照权利要求4所述的涂布方法，其特征是，得出在所述扫描中于所述喷嘴的前方有实质上障碍物的判定结果时，立刻使所述喷嘴上升移动到规定的高度位置。
7.按照权利要求1、2、3、5、6的任一项所述的涂布方法，其特征是，为了吸引除去附着于所述衬底上面的异物，对涂布所述涂布液之前的所述衬底上面施加真空吸引力。
8.按照权利要求1、2、3、5、6的任一项所述的涂布方法，其特征是，为了吸引除去附着于所述衬底下面的异物，对涂布所述涂布液之前的所述衬底下面施加真空吸引力。
9.按照权利要求1、2、5、6的任一项所述的涂布方法，其特征是，为了吸引除去附着于所述载置台的异物，对载置所述衬底之前的所述载置台施加真空吸引力。
10.按照权利要求7所述的涂布方法，其特征是，向所述真空吸引力作用地点的周围供给洁净的气体。
11.按照权利要求1、2、3、5、6、10的任一项所述的涂布方法，其特征是，对涂布所述涂布液以后的所述衬底上面进行摄像，利用图像识别来判定所述衬底上的涂布膜上是否存在实质上的斑点。
12.按照权利要求11所述的涂布方法，其特征是，对所述衬底上的涂布膜进行干燥处理以后，对所述衬底上面进行摄像，利用图像识别来判定所述衬底上的涂布膜上是否存在实质上的斑点。
13.按照权利要求11所述的涂布方法，其特征是，在得出所述衬底上的涂布膜上存在实质上的斑点的判定结果时，所述扫描结束后进行用于使所述喷嘴的涂布液喷出功能恢复正常状态的处理。
14.一种涂布装置具有在第1高度位置大致水平地支承被处理衬底的支承部；用于从上方接近的位置向由所述支承部支承的所述衬底上面喷出涂布液的喷嘴；用于在所述衬底上方进行所述喷嘴相对于所述衬底在水平方向上相对移动的扫描的扫描部；射出定向性高的光束的光束射出部，以在第2高度位置大致水平地横穿由所述支承部支承的所述衬底的上面附近；隔着所述衬底配置在与所述光束射出部对置的位置、并接收所述光束转换为电信号的受光部；基于从所述受光部输出的所述电信号，对在所述衬底上方要进行所述扫描的所述喷嘴判定在所述第2高度位置有无实质上障碍物的判定部；以及按照所述判定部的判定结果，选择执行、中止或中断所述喷嘴对所述衬底的扫描的扫描控制部。
15.按照权利要求14所述的涂布装置，其特征是，所述喷嘴具有沿与所述扫描的方向大致垂直的水平方向延伸的细微直径喷出口。
16.按照权利要求14或15所述的涂布装置，其特征是，所述支承部具有在所述第1高度位置水平地载置所述衬底的载置台。
17.按照权利要求16所述的涂布装置，其特征是，所述支承部具有以真空吸附力将所述衬底固定在所述载置台上的固定机构。
18.按照权利要求14或15所述的涂布装置，其特征是，所述支承部具有衬底漂浮机构，该机构有多个气体喷出孔，将从这些气体喷出孔向着上方喷出的气体的压力施加给所述衬底下面，使所述衬底在所述第1高度位置大致水平地浮起。
19.按照权利要求18所述的涂布装置，其特征是，具有和所述气体喷出孔混合配置的多个气体吸引孔；经由所述气体吸引孔吸引气体的吸引机构；为了使所述衬底的高度位置维持在所述第1高度位置，使由所述气体喷出孔给予所述衬底的向上压力和由所述气体吸引孔给予所述衬底的向下压力平衡的漂浮控制部。
20.按照权利要求14、15、17、19的任一项所述的涂布装置，其特征是，沿所述扫描方向在所述喷嘴前方侧的位置支承所述光束射出部和所述受光部，利用所述扫描部使之与所述喷嘴一起相对于所述衬底相对移动。
21.按照权利要求20所述的涂布装置，其特征是，具有用于使所述喷嘴升降移动的升降机构，所述扫描中由所述判定部得出在所述喷嘴的前方有实质上障碍物的判定结果时，立刻用所述升降机构使所述喷嘴上升移动到规定的高度位置。
22.按照权利要求14、15、17、19、21的任一项所述的涂布装置，其特征是，为了吸引除去附着于所述衬底上面的异物，具有对涂布所述涂布液前的所述衬底上面施加真空吸引力的第1清洗部。
23.按照权利要求14、15、17、19、21的任一项所述的涂布装置，其特征是，为了吸引除去附着于所述衬底下面的异物，具有对涂布所述涂布液前的所述衬底下面施加真空吸引力的第2清洗部。
24.按照权利要求22所述的涂布装置，其特征是，具有滚柱运送机构，该滚柱运送机构以大致水平姿态对上述衬底进行滚柱运送以使所述衬底一边接受所述真空吸引力一边通过所述清洗部附近。
25.按照权利要求14、15、17、21、24的任一项所述的涂布装置，其特征是，为了吸引除去附着于所述载置台的异物，具有对载置所述衬底之前的所述载置台施加真空吸引力的第3清洗部。
26.按照权利要求22所述的涂布装置，其特征是，所述清洗部包括向所述真空吸引力作用地点的周围供给洁净气体的气体供给机构。
27.按照权利要求14、15、17、19、21、24的任一项所述的涂布装置，其特征是，具有对涂布所述涂布液以后的所述衬底上面进行摄像的摄像部；基于由所述摄像部得到的图像信号，利用图像识别判定所述衬底上的涂布膜上是否存在实质上斑点的判定部。
28.按照权利要求27所述的涂布装置，其特征是，具有用于对所述喷嘴施加为使所述喷嘴的涂布液喷出功能恢复到正常状态的处理的喷嘴复原部；在所述判定部得出所述衬底上面存在实质上斑点的判定结果时，使所述喷嘴复原部进行所述恢复处理的复原控制部。
全文摘要
喷嘴障碍监视器(168)具有射出激光束LB以便在规定高度位置沿Y方向大致水平地横穿台(132)上载置的衬底(G)上面附近的激光射出部(222)；隔着台(132)上的衬底(G)并配置在沿Y方向与激光射出部(222)对置的位置的受光部(224)。在涂布处理部(136)中施行抗蚀剂涂布处理时，喷嘴障碍监视器(168)的激光束LB也随着扫描部(212)的扫描驱动而和抗蚀剂喷嘴(134)一起在其前方沿X方向扫描衬底(G)的上方，检查衬底(G)的上面附近是否有障碍物。所以，能够在被处理衬底上面或接近被处理面的高度位置安全地执行使喷嘴扫描的涂布动作。
文档编号B05D3/00GK1577739SQ20041006846
公开日2005年2月9日 申请日期2004年7月23日 优先权日2003年7月23日
发明者河野幸弘, 田中志信, 大塚庆崇 申请人:东京毅力科创株式会社