技术编号：3776066
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及的是一种光电材料的制备方法，具体是一种利用两亲性 超支化聚合物制备量子点的方法。技术背景超支化聚合物是一类具有三维准球形结构的高度支化的大分子。超支化聚合 物具有良好的溶解性，具有大量末端官能团和分子内空腔等。与树枝状聚合物相 比，超支化聚合物合成过程简单，可通过一步法合成。近年来，超支化聚合物在 纳米封装、超分子自组装、功能膜材料、纳米晶体的制备等领域具有广泛的研究。超支化聚合物分子内部具有纳米尺度的空腔，因此非常适于用作纳米反应器 制备量子点...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。