技术编号:37932138
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本申请涉及热处理设备的领域,尤其是涉及一种超大尺寸化学气相沉积炉。背景技术、化学气相沉积(cvd)是一个气态物质经化学反应生成固态沉积物的过程,它不同于诸如蒸发、溅射、升华等物理沉积过程。作为一种制备无机材料的技术,cvd主要应用于微电子、光电子、各种保护性和装饰性涂层以及光学涂层等领域上。将挥发性的烃类物质加热分解、沉积所得到的固体物质就是热解炭。它可以用来提高火箭喷嘴、鼻锥处的抗烧蚀性,减少石墨体的透气性,制造耐高温坩埚等。用化学气相渗透法(cvi)生成的热解炭还可以用于制造c/c复合材料...
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