技术编号：37942950
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及抛光加工，具体为一种超高平坦度的双面抛光加工系统及其硅片抛光方法。背景技术、双面抛光加工系统通常由上定盘、下定盘以及载体组成，通过上下定盘的夹持，使硅片放置在抛光布轮之间，载体承载硅片，在抛光过程中，通过旋转定盘施加适度压力和供给抛光液，实现对硅片双面的高效抛光，最终确保产品平坦度和表面质量。、现有的超高平坦度的双面抛光加工系统及其硅片抛光方法，由于其内部的抛光布轮长时间使用，表面会因与硅片接触和摩擦而磨损，定期需要对整个抛光布轮进行更换，成本较高，并且抛光液流量的不稳定，导致加工...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。