技术编号:4447860
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光纳米压印用的树脂模及使用该树脂模的成型体的制造方 法。更详细地讲,涉及使用于半导体领域或平板显示器等领域的、采用光 纳米压印方式制造表面有纳米级凹凸图案的成型体的树脂模,而且该树脂模与成型体具有良好的脱模性;还涉及使用该树脂模,采用光纳米压印方 式转印凹凸图案,以高生产效率制造上述成型体的方法。技术背景迄今,作为半导体领域或平板显示器领域等中的微细加工技术使用光 刻技术。光刻技术,首先采用喷雾涂布法、辊式涂布法、旋转涂布等的各 种方法,在硅片、...
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