技术编号:4501097
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及半导体制程废气的净化设备,特别涉及一种净化半导体制程废气的合氧供热装置。 背景技术周知在半导体的产制过程中,会产生许多具有毒性、腐蚀性及易燃性的制程废气,为了避免该废气污染环境而造成公害,必须先将该废气内的有害物质予以过滤去除的后,才能将无害的废气排放至外界大气。传统的半导体制程废气的处理方式,包含一种火焰净化废气的方式及另一种热空气净化废气的方式。其中,以火焰净废气化的方式,必须供给燃气进入废气处理槽加以点燃形成高温火焰,通过该高温火焰而将...
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