技术编号：4680223
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于一种用于300mm硅片热处理的氧化炉设备，具体的是 一种用于300mm硅片氧化处理的立式氧化炉中石英舟旋转装置。 背景技术氧化炉是给硅片进行氧化、退火等热处理工艺的半导体设备，现用的氧 化炉，大都是卧式结构，其温度均匀性及控温精度不够理想，操作和控制不 够精确灵活，自动化程度低、生产效率和产品质量不够高，不能适应300mm 硅片的生产需求。因此，需要提出一种结构改进的立式氧化炉。在此前的立 式氧化炉的石英舟升降机构上，石英舟在工艺过程中是不带...
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