技术编号:4680228
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于一种硅片热处理设备,具体的是一种用于硅片氧化、退 火处理的立式氧化炉炉体的冷却系统。 背景技术现在用于硅片热处理的氧化炉大都是卧式的,其自动化程度及控温精度 不高,操作不够灵活,特别是炉体冷却系统,基本不具备单独的炉体冷却设 置。控制不够灵活精确,冷却效率不够理想,因此,需要对其进行改进。实用新型内容本实用新型的目的是为了解决上述技术问题,提出一种300mm立式氧 化炉炉体冷却系统,该系统结构新颖、简单适用,控制灵活,冷却效果好。本实用新型的...
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