技术编号:4684826
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及晶体生长设备和高温设备,属于晶体生长设备和半导体设备制造,具体是一种炉体温度梯度实时可调机构。 背景技术随着现代工业的发展,在新材料行业和半导体行业中对高温设备的需求越来越 多,这些设备包括晶体生长炉、高温烧结炉、CVD和M0CVD设备、溅射设备。在设备需求增加 的同时,对工艺要求也越来越高,对设备的要求也越来越高。 这些相关的热处理设备根据不同的工艺要求,对设备炉膛内的温度梯度有一定的 特殊要求,往往在设备运行时候会发现温场不是太合适,现有...
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