技术编号:4775235
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光学系统中的光学布置,尤其是微光刻投射曝光设备中的光学布置。 背景技术微光刻用于产生微结构组件,例如集成电路或液晶显示器(IXD)。微光刻工艺在具有照明装置及投射物镜的所谓投射曝光设备中执行。在此情况下,为了将掩模结构转移到基板上的光敏涂层,通过投射物镜将利用照明装置照明的掩模(=掩模母版)成像到基板 (例如硅晶片)上,基板涂有光敏层(光刻胶)并设置在投射物镜的像平面上。在光学系统(例如上述的投射曝光设备)操作期间,尤其是在全局或局部高热负载的情...
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