技术编号：4856986
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本申请提供了一种电化学水垢去除装置，包括用于电化学水处理的水垢晶核生成单元；所述水垢晶核生成单元包括槽体；所述槽体的底部设有进水口和排污口；所述槽体的顶端设有出水口；设置于所述槽体的内部的旋转阴极；设置于所述槽体的内部的阳极。在本申请中，在旋转阴极附近，水溶液电解产生OH-，在旋转阴极附近界面层获得pH值高达14的碱性溶液，旋转电极将电化学过程中旋转阴极表面上和界面层中形成的水垢晶核扩散到溶液中，大量的晶核为溶液中的结垢离子提供了超大的晶体生长表面和晶体活...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。