一种电化学水垢去除装置制造方法
【专利摘要】本申请提供了一种电化学水垢去除装置，包括用于电化学水处理的水垢晶核生成单元；所述水垢晶核生成单元包括槽体；所述槽体的底部设有进水口和排污口；所述槽体的顶端设有出水口；设置于所述槽体的内部的旋转阴极；设置于所述槽体的内部的阳极。在本申请中，在旋转阴极附近，水溶液电解产生OH-，在旋转阴极附近界面层获得pH值高达14的碱性溶液，旋转电极将电化学过程中旋转阴极表面上和界面层中形成的水垢晶核扩散到溶液中，大量的晶核为溶液中的结垢离子提供了超大的晶体生长表面和晶体活性生长点；由于大量微小晶核的表面积比旋转阴极表面积大很多倍，结垢离子结晶析出的几率大大增加，除垢效率也就增加。
【专利说明】-种电化学水垢去除装置
【技术领域】
[0001] 本发明属于水垢去除装置领域，尤其涉及一种电化学水垢去除装置。
【背景技术】
[0002] 电化学技术作为一种清洁的水垢控制技术，在冷却循环水处理方面，已经经过了 多年的实际应用。电化学去除水垢有多种优势：环境友好，不会带来环境污染；不需要处置 和投加化学品；可W实现自动化和更便利的工艺控制。而主要困难是大部分水垢沉积在阴 极表面，导致电阻升高和电流效率下降。
[0003] 目前，采用的几种水垢处理方法包括极性倒置和超声清洗。如申请号为 200620032114. 5的中国专利文献公开了一种倒极运行的电化学反应器，该电化学反应器在 电化学水处理过程中，阴极水垢会不断增厚，其借助倒极使阴极水垢脱落，但是频繁倒极除 垢，将使电解装置的阳极丧失催化活性，导致电极产生很高的超电势，电流效率下降，进而 降低除垢能力。又如
【发明者】章明歅, 章俊杰 申请人:章明歅, 章俊杰