技术编号：4869470
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及电子部件洗净废水等含表面活性剂的水的处理方法及处理装置，尤其涉及一种通过臭氧处理含表面活性剂的水的处理方法及处理装置。背景技术 迄今为止，在半导体制造工厂或液晶等显示装置制造工厂里，作为在产品的制造过程中清洗晶片的清洗用水，使用杂质浓度极低的超纯水。但是，如果仅使用超纯水的清洗，有时则因表面张力而难于洗净晶片的细微部分。因此，最近开始使用向超纯水中添加表面活性剂和醇等有机物，以降低表面张力的洗净晶片方法。因此，在半导体制造过程等中，被排出的废水中...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。