专利名称：含表面活性剂的水的处理方法及处理装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及电子部件洗净废水等含表面活性剂的水的处理方法及处理装置，尤其涉及一种通过臭氧处理含表面活性剂的水的处理方法及处理装置。
背景技术：
迄今为止，在半导体制造工厂或液晶等显示装置制造工厂里，作为在产品的制造过程中清洗晶片的清洗用水，使用杂质浓度极低的超纯水。但是，如果仅使用超纯水的清洗，有时则因表面张力而难于洗净晶片的细微部分。因此，最近开始使用向超纯水中添加表面活性剂和醇等有机物，以降低表面张力的洗净晶片方法。
因此，在半导体制造过程等中，被排出的废水中有时含有向超纯水添加的表面活性剂。作为处理此类电子部件清洗废水等含表面活性剂的水的处理方法，已知的有活性炭吸附法、泡沫分离法、化学分解法、以及生物处理法等。作为化学分解法，有向含表面活性剂的水照射紫外线的紫外线照射法和添加臭氧等氧化剂的氧化剂添加法等。
例如，在专利文献1中，公开了向含表面活性剂的水添加臭氧之后再添加氢的、处理含表面活性剂的水的处理方法。根据专利文献1中公开的方法，向含表面活性剂的水添加臭氧，使表面活性剂氧化分解；接着，通过添加氢，还原处理水中残留的臭氧等氧化剂。
特开2000-271577号公报然而，作为臭氧的生成方法，有以空气或氧为原料，通过进行放电而生成臭氧的放电方式、和电解纯水而生成臭氧的电解方式。因为通过电解方式可获取臭氧浓度为20质量％左右的臭氧水溶液，所以在专利文献1中指出，优选的做法为使用通过电解方式生成的臭氧。但是，通过电解方式能够生成的臭氧甚至不能达到1g/h的程度。因此，通过电解方式，不能生成大量的臭氧。
另一方面，如果通过放电方式，则可生成300kg/h程度的臭氧。因此，迄今为止，在通过臭氧处理大量的含表面活性剂的水时，使用含有通过放电方式而生成的臭氧的含臭氧气体。但是，含有通过放电方式而生成的臭氧的气体，其臭氧浓度低，例如，以空气为原料而生成的含臭氧气体，其臭氧浓度为40g/Nm3(2.7质量％)程度，以氧气为原料而生成的含臭氧气体，其臭氧浓度也仅为150～200g/Nm3(10～13质量％)程度。
因此，为使含表面活性剂的水中所含的表面活性剂等有机物氧化分解，需将大量的含臭氧的气体吹入含表面活性剂的水中。例如，假设使含表面活性剂的水中所含的总有机碳(TOC)分解所需要的臭氧量为TOC的8倍(质量比)，在这种场合下，处理TOC浓度为20mg/L的废水所需要的臭氧量为160mg/L。此时，即使使用浓度为150mg/L的含臭氧气体，通过臭氧进行氧化分解的反应槽内的气液比也超过1.0。向反应槽吹入这种大量的含臭氧的气体时激烈地发生气泡。
特别地，将含有作为TOC成分的非离子性表面活性剂的含表面活性剂的水导入反应槽中，由设置在反应槽下部的散气管吹入含臭氧的气体时，激烈地发生气泡。其结果，无法稳定反应槽的气液界面，发生所谓从含废臭氧气体排出用的废臭氧管中放出气泡的问题。
发明内容
本发明针对以上课题，以提供一种在对发泡性强的含有表面活性剂的水进行臭氧处理之际、能够抑制因含臭氧气体的吹入而引起的发泡从而进行稳定处理的含表面活性剂的水的处理方法及处理装置为目的。
本发明具体地提供以下内容(1)、一种向含表面活性剂的水中添加臭氧的、含表面活性剂的水的处理方法，其特征在于，将上述含表面活性剂的水流于配有入口及出口的流路，在沿上述流路的多个位置，将上述臭氧添加于上述含表面活性剂的水中，且在距上述出口最近的位置添加最多的臭氧。
(2)、如(1)所述的含表面活性剂的水的处理方法，在添加上述臭氧之前，向上述含表面活性剂的水中添加碱。
(3)、如(1)所述的含表面活性剂的水的处理方法，在添加上述臭氧之前，向上述含表面活性剂的水中添加碱和过氧化氢。
(4)、一种含表面活性剂的水的处理装置，其包括含表面活性剂的水从入口流向出口的流路，其特征在于，该含表面活性剂的水的处理装置另外包括沿上述流路设置的、可向流于上述流路的上述含表面活性剂的水中添加上述臭氧，从而氧化分解表面活性剂的多个臭氧反应设备；在上述多个臭氧反应设备中，设置于距上述出口最近位置的最终段臭氧反应设备，与其它臭氧反应设备相比，向上述含表面活性剂的水中添加更多的上述臭氧。
(5)、如(4)所述的含表面活性剂的水的处理装置，上述最终段臭氧反应设备为配有臭氧供给装置的气液接触型反应槽；作为上述其它臭氧反应槽包括搅拌反应设备，该搅拌反应设备配有向上述流路供给上述臭氧的流路内臭氧供给装置和用于搅拌上述流路内的含表面活性剂的水的搅拌装置。
(6)、如(4)或(5)所述的含表面活性剂的水的处理装置，还包括，设置于距入口比上述多个臭氧反应设备中的至少任意一个都近的位置上的、用于向上述含表面活性剂的水中添加碱的碱添加装置。
(7)、如(4)或(5)所述的含表面活性剂的水的处理装置，还包括，设置于距入口比上述多个臭氧反应设备中的至少任意一个都近的位置上的、用于向上述含表面活性剂的水中添加碱的碱添加装置，和用于添加过氧化氢的过氧化氢添加设备。
根据本发明所处理的被处理液中至少含有表面活性剂。对于表面活性剂的浓度，无特别的限定，例如，可用于表面活性剂浓度为3～30mg/L、含有表面活性剂以外的有机物且TOC浓度为5～50mg/L程度的含表面活性剂的水的处理。本发明也可处理像电子部件制造工厂的废水那样的低TOC浓度废水。具体地，可适于处理表面活性剂的浓度为1～5mg/L程度，TOC浓度为2～10mg/L程度的含表面活性剂的水。
本发明尤其适用于发泡性强的含有非离子性表面活性剂的含表面活性剂的水的处理，也适用于含有带环氧乙烷(EO)链的难分解性表面活性剂的水的处理。但是，对于表面活性剂的种类，无特别的限定。因此，不能排除将本发明用于处理含有阴离子性表面活性剂和阳离子性表面活性剂的水的可能性。非离子性表面活性剂有聚氧化乙烯烷基醚(AE)、聚氧化乙烯烷基苯基醚(APE)、烷醇脂肪酰胺、及聚氧化乙烯山梨聚糖酐脂肪酸酯(polyoxyethylene sorbitan ester of fatty acid)等。
臭氧，可作为空气或氧气为原料制造的含臭氧的气体，被添加于含表面活性剂的水中。然而不能排除使用以电解方式制造的臭氧。优选的臭氧添加量为，将表面活性剂完全分解至碳酸气体所需要的量(以下，称为“完全分解需要量”)。但是，也可根据反应效率添加超出完全分解需要量的臭氧，在完成涉及本发明的处理之后，再进行生物处理、吸附处理、或去离子处理时，添加量可小于完全分解需要量。
具体地，在将表面活性剂完全分解至碳酸气体的场合，优选的臭氧添加量为表面活性剂的20～50倍(质量比)。另外，在根据本发明进行处理之后，再进行生物处理的场合，优选的臭氧添加量为表面活性剂的2～10倍(质量比)。按照该臭氧添加量添加臭氧，能够将表面活性剂分解为可生物分解的形态，即分解至有机酸或乙二醇类。
本发明中，在向一定方向流动的含表面活性剂的水的流动方向的多个位置，分割添加分解表面活性剂所需要的臭氧，尤其在最终段，即距出口最近的位置添加最多的臭氧。在最终段所添加的臭氧，其优选的添加量为总添加量的60～95％。在本发明中，将添加臭氧的位置分为多个。因此，根据反应效率等，可以调整最终段添加的臭氧量，使之多于预先所设定的添加量；反之，少于该预先所设定的添加量也可。
在臭氧添加位置为2个以上即可，将臭氧添加位置定为2个时，在靠近最终段的前段，即最初的臭氧添加位置，添加总添加量的5～40％的臭氧。另外，在将臭氧添加位置定为3个以上的场合，在最终段之外的多个臭氧添加位置，添加臭氧，其臭氧添加量可相等，也可不等。若臭氧添加位置太多，则可提高表面活性剂的分解效率，然而为添加臭氧所需要的机器类也随之变多。因此，臭氧添加位置优选地定为2～3个。
根据本发明，若将分解表面活性剂所需要的臭氧的添加位置分为沿着含表面活性剂的水的流动方向的多个位置，则与在1个位置添加臭氧的场合相比，在每个位置所添加的臭氧量变少。因此，可以抑制发泡。尤其，在本发明中，在距含表面活性剂的水的流路的出口最近的最终段，添加总添加量的大部分，由此减少了在靠近最终段的入口侧，即前段所添加的臭氧量。因此，可以持续抑制发泡，获得高的臭氧分解效率。
可以推测，之所以这样是因为在入口处所添加的少量的臭氧，与表面活性剂的呈表面活性的部分(疏水性部分和亲水性部分的边界部)容易且迅速地进行反应，从而使表面活性剂变性。即，可以认为，在入口侧首先添加的少量臭氧，使表面活性剂变性，由此降低了发泡性。因此，即使在最终段添加大量的臭氧，也可抑制发泡。
在臭氧添加位置上，设置向含表面活性剂的水添加臭氧而使臭氧与表面活性剂反应的臭氧反应设备。只要在该臭氧反应设备上配备可向含表面活性剂的水中添加臭氧的臭氧供给装置即可，但是，为使臭氧与表面活性剂充分反应，优选地另外配备，使含表面活性剂水可滞留规定时间的反应槽。尤其，在设置于距含表面活性剂的水所流经的流路的出口最近位置的臭氧反应设备(最终段臭氧反应设备)上，为确保表面活性剂与臭氧的反应时间，优选地配备具有散气管等臭氧供给装置的气液接触型反应槽。
另一方面，因为表面活性剂中呈表面活性的部分与臭氧的反应速度高，所以在设置于靠近最终段臭氧反应设备的入口侧的臭氧反应设备(以下称为，“前段臭氧反应槽”)上，只要至少配备向流动于流路内的表面活性剂中添加臭氧的流路内臭氧供给装置即可。作为流路内臭氧供给装置，可列举注入臭氧用的导管、喷射器、多孔管、以及具有进气孔的涡流泵等。在前段臭氧反应设备上，尤其为提高臭氧与含表面活性剂的水接触的接触效率，除了配备流路内臭氧供给装置，优选地配备具有搅拌流路内的含表面活性剂的水的作用的搅拌装置。作为搅拌装置，列举可含气运转的涡流泵、以及管线用搅拌机等。如上所述，可以通过在前段臭氧反应设备中省略反应槽，简化设备。
在本发明中，为了促进使用臭氧进行的氧化反应，也可以在向含表面活性剂的水中添加臭氧之前，添加碱，在与碱共存的条件下，向含表面活性剂的水中添加臭氧。优选地将碱的添加量定为，使含表面活性剂的水的pH值调成9～11程度所需要的量。对于所添加的碱的种类，无特别的限定。可使用氢氧化钠和氢氧化钾等。
另外，除了向含表面活性剂的水中添加碱，还可添加过氧化氢。在向添加臭氧之前的含表面活性剂的水中添加碱和过氧化氢的场合，对于碱和过氧化氢的添加顺序，无特别的限定。再者，碱的添加量，与在不添加过氧化氢的场合下所添加的量相等即可。优选的过氧化氢的添加量为，相对于臭氧的添加量的质量比约为0.1～1。
如上所述，在向含表面活性剂的水中单独或与过氧化氢一起添加碱之后，可以通过添加臭氧，使羟基生成，促进氧化反应。可以在分为多个的臭氧添加位置的至少1个位置上，在添加臭氧之前，添加碱(和过氧化氢)。也可以在各臭氧添加位置之前的位置上，添加碱(和过氧化氢)。尤其为使生成羟基的效率提高，优选地在距出口最近的臭氧添加位置之前的位置上，添加碱(以及过氧化氢)。
对于反应槽的形状，无特别的限制，优选具有，从反应槽的下部向含表面活性剂的水中供给含臭氧的气体且从反应槽的上部取出含废臭氧的气体的结构。另外，可以从反应槽下部供给被处理的水，也可以在反应槽上部设置散水装置，通过该散水装置，对被处理的水进行散水供给。若这样向液面散水，则更容易抑制发泡。
若根据本发明，则能够抑制含表面活性剂的水的发泡，添加氧化分解表面活性剂所需要的臭氧。因此，若根据本发明，则能够以高分解率分解表面活性剂，且可防止因发泡而发生的问题，稳定地处理含表面活性剂的水。
图1为涉及本发明一实施例的含表面活性剂的水的处理装置的模式图。
1 处理装置5 流路10前段臭氧反应设备11涡流泵12臭氧注入管20最终段臭氧反应设备21散气管22反应槽23散水管
25臭氧发生器25A 臭氧路31第1过氧化氢注入管32第2过氧化氢注入管41第1碱注入管42第2碱注入管51入口52出口具体实施方式
下面参照附图，详细说明本发明。以下对相同的部件标注相同的符号，以省略或简化说明。图1为涉及本发明一实施例的含表面活性剂的水的处理装置(下面略称为“处理装置”)1的模式图。处理装置1包括，流有作为被处理液的含表面活性剂水的流路5；设置在流路5途中的前段臭氧反应设备10；最终段臭氧反应设备20。流路5配备入口51和出口52。含表面活性剂的水按照从入口51向出口52的流动方向，从入口51导入处理装置1内，从出口52排出。
在本实施例中，在靠近前段臭氧反应设备10的入口51侧，设有第1过氧化氢添加装置和第1碱添加装置。另外，在靠近最终段臭氧反应设备20的入口51侧，设有第2过氧化氢添加装置以及第2碱添加装置。如上所述，也可以省略这些过氧化氢添加装置和碱添加装置。
过氧化氢添加装置由可向流动于流路5内的含表面活性剂的水中添加过氧化氢的部件构成。例如，该部件可以是一端连接于储存过氧化氢的储存槽的导管。在本实施例中，第1过氧化氢添加装置由第1过氧化氢注入管31构成，第2过氧化氢添加装置由第2过氧化氢注入管32构成；第1过氧化氢注入管31和第2过氧化氢注入管32的一端都与过氧化氢储存槽30相连接，另一端与构成流路5的导管相连接。
碱添加装置由可向流动于流路5内的含表面活性剂的水中添加碱的部件构成。例如，可以是一端连接于储存碱的储存槽的导管。在本实施例中，第1碱添加装置由第1碱注入管41构成，第2碱添加装置由第2过氧化氢注入管42构成，第1碱注入管41和第2碱注入管42的一端都与碱储存槽40相连接，另一端与构成流路5的导管相连接。
前段臭氧反应设备10包括，作为搅拌装置设置在流路5途中的涡流泵11和连接于靠近涡流泵11的入口51侧的流路5的流路内臭氧供给装置，且由二者构成。在本实施例中，流路内臭氧供给装置可以由向流路5内吹入含臭氧气体的部件构成。例如，在本实施例中，该部件由一端连接于流路5的臭氧注入管12构成。臭氧注入管12的另一端与臭氧生成器25相连接。
最终段臭氧反应设备20由配有作为被处理水(来自前段臭氧反应设备10的处理水)供给装置的散水管23和作为臭氧供给装置的散气管21的气液接触型的反应槽22构成。散气管21的一端与臭氧生成器25相连接。在臭氧发生器25生成的含臭氧气体通过散气管21，由反应槽22的下部被添加到含表面活性剂的水中。对于反应槽22的尺寸，无特别的限定。但是，优选地设计该反应槽，使含表面活性剂的水的滞留时间等于臭氧分解表面活性剂所需要的时间。例如，可以设计该反应槽，使含表面活性剂的水的滞留时间约为5～10分钟。
在本实施例中，通过臭氧路25A，向注入管12和散气管21供给臭氧发生器25所生成的含臭氧的气体。尤其在本发明中，由最终段臭氧反应设备20向含表面活性剂的水中添加含臭氧气体的大部分(约60～95％)。因此，该处理装置按以下要求构成。即，向散气管21供给在臭氧发生器25中所生成的含臭氧气体的大部分，向注入管12供给所生成的含臭氧的气体的约5～40％。
其次，说明使用上述处理装置处理含表面活性剂的水的方法。首先，将半导体制造废水等含表面活性剂的水作为被处理液，由入口51导入流路5内。可以根据需要，在流路5的途中设置泵等，控制含表面活性剂的水，使其从入口51侧向出口52侧且以0.5～2m/sec程度的速度流经流路5。
在本发明实施例的处理装置1中，沿着流路5，从入口51侧向出口52侧，依次设置第1过氧化氢注入管31、第1碱注入管41、臭氧注入管12、涡流泵11、第2过氧化氢注入管32、第2碱注入管42和反应槽22。于是，向按照从入口51侧向出口52侧的方向流动的含表面活性剂的水中，沿着其流动方向，首先，从第1过氧化氢注入管31添加过氧化氢并从第1碱注入管41添加氢氧化钠等的碱，调整pH值，使其达到9～11的程度。
接着，从臭氧注入管，向其pH值已被调高的表面活性剂中添加少量的含臭氧的气体。在臭氧注入管12的后面设有涡流泵11。利用涡流泵11，搅拌被添加了少量的含臭氧的气体。因为只要能够在前段臭氧反应设备10中添加少量的臭氧即可，所以也可省去涡流泵11。另外，不设置臭氧注入管12和涡流泵11，作为代替，也可在流路5的途中设置喷射器和管线用搅拌机。如上所述，在前段臭氧反应设备10中，通过涡流泵11等，搅拌已被添加少量臭氧的含表面活性剂的水，而赋予其大的剪切力。据此，使少量的臭氧与表面活性剂能够有效地进行反应。
在前段臭氧反应设备10中，通过添加少量的臭氧，使表面活性剂变性，降低发泡性。可以推测，之所以这样是因为少量添加的臭氧主要与表面活性剂的疏水性部分和亲水性部分的境界部反应，使表面活性剂的呈表面活性的部分变性。因此，即使在最终段臭氧反应设备20中，大量添加臭氧，也能够抑制被处理液的发泡。因而，根据本发明，在前段臭氧反应设备10中添加在处理装置1中向含表面活性剂的水中所添加的总臭氧量的5～40％程度，在最终段的臭氧反应设备20中添加所剩余量的臭氧。
另外，因臭氧与表面活性剂的反应而使表面活性剂变性生成有机酸。因此，在处理装置1中，在最终段臭氧反应设备20的前面设有第2过氧化氢注入管32和第2碱注入管42。据此，向流经前段臭氧反应设备10的含表面活性剂的水中添加过氧化氢和碱，在促进使用臭氧进行的氧化反应的状态下，在最终段臭氧反应设备20中进行处理。
在最终段臭氧反应设备20中，向反应槽22导入被处理液(含表面活性剂的水)，从连接于反应槽22下部的散气管21吹入含臭氧的气体，使被处理液按照规定的时间在反应槽22内滞留。在最终段臭氧反应设备20中，向被处理液中添加在处理装置1中向含表面活性剂的水中所添加的总臭氧量的大部分(60～95％程度)，使表面活性剂分解。在最终段臭氧反应设备20中进行处理之后，由出口52取出表面活性剂已被分解的处理水，根据需要进行生物处理等的后处理，所得产物可作为超纯水制造用的原料水来利用。
实施例以下根据实施例，进一步地详细说明本发明。作为实施例，使用图1所示的处理装置1，以含有作为表面活性剂的APE的含表面活性剂的水为被处理液。含表面活性剂的水为，通过在纯水中溶解APE使其TOC浓度达到21mg/L的程度而制得的合成废水。
作为涡流泵11，使用了出口压力0.3Mpa的涡流泵(株式会社NIKUNI制造)。将含表面活性剂的水从入口51向出口52，流路5中以350L/h的流速，导入到处理装置1。
本发明中，在各臭氧反应设备中添加臭氧之前，添加了过氧化氢和碱。所使用的过氧化氢浓度为35质量％，所使用的碱为浓度4质量％的氢氧化钠。过氧化氢的添加量为从第1过氧化氢注入管31的添加量设为15mg/L，从第2过氧化氢注入管32的添加量设为250mg/L。另在第2过氧化氢注入管32未与流路5连接，而连接于反应槽22的下部的点与图1的处理装置1不同的构成。
另一方面，氢氧化钠由第1碱注入管41以及第2碱注入管42分别注入到流路5。氢氧化钠的添加量为将含表面活性剂的水的pH调至10的量。
作为臭氧生成器25，使用了以氧气为原料、通过放电方式生成臭氧浓度为150g/Nm3的含臭氧的气体的装置。将设置成被臭氧生成器25所生成的含臭氧气体，以20L/h的供给速度，从臭氧注入管12被注入于流路5内，向安装于反应槽22的散气管21的供给量成350L/h的供给速度。
作为反应槽22使用了直径300mm、高度2，700mm的圆筒状的气液接触型臭氧反应塔。在反应槽22的下面连接散气管21吹入含臭氧的气体的同时，从反应槽22的上部介于散水管23散水被处理水(前段处理水)。
在上述条件下进行试验，在涡流泵11的出口采取被前段臭氧反应设备10所处理的含表面活性剂的水(前段处理水)，测定了前段处理水的表面活性剂浓度。另在反应槽22的出口采取被最终段臭氧反应设备20所处理的含表面活性剂的水(最终段处理水)，测定了最终段处理水的表面活性剂浓度。表面活性剂浓度是使用分光荧光光度计(株式会社ハイテクノロジ一ス制造，F-4500)，在励起波长230nm、荧光波长305nm下进行了测定。测定结果，前段处理水的表面活性剂浓度为3.3mg/L，最终段处理水的表面活性剂浓度为0.37mg/L，表面活性剂的去除率为98.2％。另，反应槽22的气液界面稳定，持续运转了2小时以上。
作为比较例，通过关闭设置在臭氧注入管12上的阀门(图中为示)而不在前段臭氧反应设备10中进行臭氧的添加，设置成在反应槽22中添加全部量的臭氧。具体为，将由连接于反应槽22的散气管2供给的含臭氧的气体的量设置为370L/h。其他条件与实施例相同的情况下进行了试验的结果，反应槽22的气液界面变的混乱。其结果，最终段处理水的表面活性剂浓度为2.4mg/L，表面活性剂的去除率下降到88.5％。另，反应槽22内充满了气泡，气液界面降低，所以在大约在30分钟时不得不停止处理。
如上所述，根据本发明，则能够防止由发泡而引起的处理装置1的运转问题，能够以高分解率安定地分解表面活性剂。
本发明可使用于含表面活性剂的排水的处理。
权利要求
1.一种含表面活性剂的水的处理方法，向含有表面活性剂的水中添加臭氧，其特征在于，将上述含表面活性剂的水流于配有入口及出口的流路，在沿上述流路的多个位置，将上述臭氧添加于上述含表面活性剂的水中，且在距上述出口最近的位置添加最多量的臭氧。
2.如权利要求1所述的含表面活性剂的水的处理方法，其特征在于，在添加上述臭氧之前，向上述含表面活性剂的水中添加碱。
3.如权利要求1所述的含表面活性剂的水的处理方法，其特征在于，在添加上述臭氧之前，向上述含表面活性剂的水中添加碱和过氧化氢。
4.一种含表面活性剂的水的处理装置，包括含表面活性剂的水从入口流向出口的流路，其特征在于，该含表面活性剂的水的处理装置另外包括沿上述流路设置的、向流入上述流路的上述含表面活性剂的水中添加上述臭氧，从而氧化分解表面活性剂的多个臭氧反应设备；在上述多个臭氧反应设备中，设置于距上述出口最近位置的最终段臭氧反应设备与其它臭氧反应设备相比，向上述含表面活性剂的水中添加更多的上述臭氧。
5.如权利要求4所述的含表面活性剂的水的处理装置，其特征在于，上述最终段臭氧反应设备为配有臭氧供给装置的气液接触型反应槽；作为上述其它臭氧反应槽，包括搅拌反应设备，该搅拌反应设备配有向上述流路供给上述臭氧的流路内臭氧供给装置和用于搅拌上述流路内的含表面活性剂的水的搅拌装置。
6.如权利要求4或5所述的含表面活性剂的水的处理装置，其特征在于，该含表面活性剂的水的处理装置另外包括，设置于距入口比上述多个臭氧反应设备的至少任意一个都近的位置上的、用于向上述含表面活性剂的水中添加碱的碱添加装置。
7.如权利要求4或5所述的含表面活性剂的水的处理装置，其特征在于，该含表面活性剂的水的处理装置另外包括，设置于距入口比上述多个臭氧反应设备的至少任意一个都近的位置上的、用于向上述含表面活性剂的水中添加碱的碱添加装置和用于添加过氧化氢的过氧化氢添加设备。
全文摘要
本发明的课题为提供能够抑制由含臭氧气体的吹入而引发的发泡，可进行稳定的处理的含表面活性剂的水的处理方法及处理装置。解决方案为将含表面活性剂的水导入流路5中，以入口51向出口52的方向流，在含表面活性剂的水流的多个位置，添加臭氧。臭氧添加量设为，在设置在距上述出口52最近的位置的最终段反应设备20中的添加量为最多。例如，在前段臭氧反应设备10和最终段臭氧反应设备20的2处添加臭氧时，在前段臭氧反应设备10上添加总臭氧添加量的5～40容量％程度，再在最终段臭氧反应设备20中添加剩余的臭氧。
文档编号C02F1/78GK1974431SQ20061016082
公开日2007年6月6日 申请日期2006年11月30日 优先权日2005年12月1日
发明者一柳直人, 牛山妙子 申请人:栗田工业株式会社